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Formação de filmes finos de oxinitreto de silicio (SiOxNy) por implantação de ions de nitrogenio (N2+) e de oxido nitrico (NO+)

Publicado em 1996
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Tese

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Construção de um sistema de processamento termico rapido (RTP) com lampadas tungstenio-halogenio como fonte radiante de aquecimento

Publicado em 1992
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Dissertação