Avaliação da influência do fluxo total de nitrogênio e hidrogênio sobre as propriedades físicas dos filmes finos de nitreto de titânio depositados por plasma com uso de gaiola catódica - Castro, Ana Luiza de (2017)
RESUMO: Filmes de nitreto de titânio foram crescidos sobre substrato de vidro utilizando a técnica de deposição por plasma com uso de gaiola catódica. Com o propósito de aprimorar esse método, buscou-se investigar as condições com as quais se pode potencializar as propriedades físicas dos revestimentos formados. Para tanto, analisou-se a influência do fluxo total de nitrogênio e hidrogênio sobre a taxa de deposição, morfologia e propriedades físicas dos filmes formados. Os filmes foram crescidos em uma atmosfera gasosa de N₂ e H₂, com um fluxo parcial fixo de 20% N₂ e 80% H₂, a uma temperatura de 240 ºC, durante três horas de tratamento e com uma pressão de trabalho de 0,97 Torr. Assim, realizou-se uma série de deposições com diferentes fluxos totais de N₂ e H₂. A caracterização por incidência rasante evidenciou uma natureza predominantemente amorfa dos filmes formados. Constatou-se também que quanto maior o fluxo aplicado, maior a densidade de defeitos, maior a rugosidade e maior é a concentração de portadores de carga nos filmes depositados, que favorecem a diminuição da resistividade dos mesmos. Além disso, observou-se que filmes mais rugosos implicam em uma menor transmitância do revestimento, o que pode estar associado aos efeitos de dispersão de luz no visível que são intensificados com o aumento da rugosidade da superfície dos filmes.