Estudo da influência das condições de deposição no comportamento mecânico de filmes finos de TiN

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2014
Autor(a) principal: Silva, Felipe Carneiro da
Orientador(a): Lanfredi, Alexandre José de Castro
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Universidade Federal do ABC
Programa de Pós-Graduação: Programa de Pós-Graduação em Nanociências e Materiais Avançados
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Link de acesso: http://biblioteca.ufabc.edu.br/index.php?codigo_sophia=75515&midiaext=69218
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Resumo: Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nivel Superior
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spelling info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisEstudo da influência das condições de deposição no comportamento mecânico de filmes finos de TiN2014-03-18Lanfredi, Alexandre José de CastroSilva, Felipe Carneiro daUniversidade Federal do ABCPrograma de Pós-Graduação em Nanociências e Materiais AvançadosUFABCporENSAIO DE TRAÇÃOCOMPORTAMENTO MECÂNICOFILMES FINOSTENSILE TESTFRACTURE MECHANISMSTHIN FILMPROGRAMA DE PÓS-GRADUAÇÃO EM NANOCIÊNCIAS E MATERIAIS AVANÇADOS - UFABCCoordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nivel SuperiorEste trabalho dedica-se ao estudo da influencia das condicoes de deposicao de filmes finos de nitreto de titanio (TiN), observando o comportamento mecanico quando solicitados em um ensaio de tracao. Os filmes foram depositados utilizando a tecnica de deposicao fisica a vapor (PVD) Triodo Magnetron Sputtering (TMS) em substratos de Al. Atraves dos resultados dos ensaios mecanicos, estimou-se o espacamento maximo entre trincas a partir do valor de saturacao das mesmas, para cada condicao de sintese. Duas condicoes principais de sintese para obtencao dos filmes foram a variacao da tensao (bias) de polarizacao em -50, -100 e -150 V no substrato e o tempo de deposicao em 30, 60, 90 e 120 min, obtendo assim diferentes tensoes compressivas e espessura de filmes, respectivamente. Os filmes finos foram obtidos a partir de um alvo de uma liga de Ti6Al4V em atmosfera reagente de gas nitrogenio e foram utilizados substratos de aluminio comercial com 1 e 3 mm de espessura. Tanto os filmes quanto os substratos foram caracterizados pela tecnica do Ensaio de Tracao, Difracao de raios-X, Microscopia otica, Microscopia Eletronica de Varredura e Espectroscopia de Energia Dispersiva. Calculou-se o espacamento de saturacao de trincas utilizando o metodo proposto por Jeong, comparando esse espacamento entre as diferentes condicoes de deposicao e espessura dos filmes. A partir do metodo de sen2¿Õ (SSPP), que utiliza os resultados de difracao de raios-X obtidos em Angulos rasantes fixos (configuracao Seeman-Bohlin), calculou-se a tensao residual do filme apos a sintese com o intuito de estimar a tensao cisalhante interfacial pelo modelo proposto por Chou. Como resultado, os filmes com maior espessura tiveram um espacamento de saturacao das trincas maior quando comparados com os filmes de menor espessura. Os filmes depositados com a tensao de polarizacao negativa menor (-50V) tambem tiveram um espacamento de saturacao maior quando comparados com os filmes depositados com tensao de polarizacao negativa mais elevado (-100 e -150V). Tensoes de polarizacao tendem a gerar altas tensoes residuais compressivas no filme, o que podem levar ao destacamento do mesmo na interface. Tensoes de cisalhamento interfacial tambem estao diretamente relacionadas com tensoes residuais compressivas. Filmes com uma maior espessura podem ter uma menor tensao compressiva, mas ao mesmo tempo correm o risco de sofrerem destacamento do substrato. Assim, a escolha da amostra que obteve a melhor adesao foi aquela que ao mesmo tempo nao destacou e teve um alto valor de ¿É Sat.http://biblioteca.ufabc.edu.br/index.php?codigo_sophia=75515&midiaext=69218http://biblioteca.ufabc.edu.br/index.php?codigo_sophia=75515&midiaext=69218/index.php?codigo_sophia=75515&midiaext=69217application/pdfapplication/pdfreponame:Repositório Institucional da UFABCinstname:Universidade Federal do ABC (UFABC)instacron:UFABCinfo:eu-repo/semantics/openAccess2026-01-15T21:25:14Zoai:BDTD:75515Repositório InstitucionalPUBhttp://www.biblioteca.ufabc.edu.br/oai/oai.phpopendoar:2022-03-24T11:37:21Repositório Institucional da UFABC - Universidade Federal do ABC (UFABC)false
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