Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 1991
Autor(a) principal: Ramos, Airton
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: [s.n.]
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Filmes finos
Semicondutores
Ejeção (Física)
Link de acesso: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1582953
Resumo: Orientador: Alaide P. Mammana
id UNICAMP-30_f3c627e52698601fef9116b0a90e9bf1
oai_identifier_str oai::97602
network_acronym_str UNICAMP-30
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository_id_str
spelling Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")Filmes finosSemicondutoresEjeção (Física)Orientador: Alaide P. MammanaDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia EletricaResumo: Neste texto apresentamos nossos resultados da caracterização de filmes finos de silício amorfo hidrogenado (Si : H-a) obtidos pela técnica de "RF sputtering", usando um antigo sistema Varian que reconstruímos para este fim. As amostras foram depositadas sob diversas condições a fim de compreendermos a influência dos parâmetros do processo, tais como as pressões parciais de 'H IND. 2¿ e Ar, temperatura do substrato, potência de RF e tensão de polarização do catodo, nas propriedades dos filmes depositados. Assim, estudamos a taxa de deposição, a composição e as propriedades elétricas e ópticas de nosso material, medindo a espessura, a condutividade elétrica e a transmitância no IV e VIS das amostras depositadas ... Observação: O resumo, na íntegra, poderá ser visualizado no texto completo da tese digitalAbstract: In this text we present our results on the physical characterization of thin films of hidrogenated amorphous silicon (a-Si : H) obtained by RF sputtering, using an old Varian system that we have re-built for this purpose. The samples have been deposited on several conditions in order to understand the influence of the process parameters as 'H IND. 2¿ and Ar partial pressures, substrate temperature, RF power and cathode bias voltage, on the electrical and physical properties of the deposited films. So, we have studied the deposition rate, the composition and the electrical conductivity and IR and VIS transmitance. The deposition rate was strongly dependent on the 'H IND. 2¿ partial pressure, decreasing from 80 A/min to 20 A/min when the 'H IND. 2¿ pressur increased from 0 to 0.4 mTorr for 200 W of RF power. Increasinf the RF power from 100 to 300 W, the deposition rate increases strongly, but the thickness uniformity is worsened ... Note: The complete abstract is available with the full electronic digital thesis or dissertationsMestradoMestre em Engenharia Elétrica[s.n.]Mammana, Alaide Pellegrini, 1941-Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia ElétricaPrograma de Pós-Graduação em Engenharia ElétricaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASRamos, Airton19911991-11-22T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdf105 f. : il.(Broch.)https://hdl.handle.net/20.500.12733/1582953RAMOS, Airton. Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering"). 1991. 105 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1582953. Acesso em: 2 set. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/97602porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2022-05-04T18:08:09Zoai::97602Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2022-05-04T18:08:09Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
dc.title.none.fl_str_mv Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")
title Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")
spellingShingle Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")
Ramos, Airton
Filmes finos
Semicondutores
Ejeção (Física)
title_short Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")
title_full Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")
title_fullStr Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")
title_full_unstemmed Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")
title_sort Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")
author Ramos, Airton
author_facet Ramos, Airton
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Mammana, Alaide Pellegrini, 1941-
Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia Elétrica
Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica
UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
dc.contributor.author.fl_str_mv Ramos, Airton
dc.subject.por.fl_str_mv Filmes finos
Semicondutores
Ejeção (Física)
topic Filmes finos
Semicondutores
Ejeção (Física)
description Orientador: Alaide P. Mammana
publishDate 1991
dc.date.none.fl_str_mv 1991
1991-11-22T00:00:00Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv (Broch.)
https://hdl.handle.net/20.500.12733/1582953
RAMOS, Airton. Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering"). 1991. 105 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1582953. Acesso em: 2 set. 2024.
identifier_str_mv (Broch.)
RAMOS, Airton. Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering"). 1991. 105 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1582953. Acesso em: 2 set. 2024.
url https://hdl.handle.net/20.500.12733/1582953
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/97602
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
105 f. : il.
dc.publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron:UNICAMP
instname_str Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron_str UNICAMP
institution UNICAMP
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.mail.fl_str_mv sbubd@unicamp.br
_version_ 1809189673117941760

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