Resistência de união de cimentos resinosos, convencional e autoadesivo, em substratos dentinários normal e hipermineralizado artificalmente - Tavares, Maria Tereza Gomes [UNESP] (2016)
O objetivo deste trabalho foi avaliar a resistência de união de cimentos resinosos, convencional e autoadesivo, em um substrato dentinário normal e hipermineralizado artificialmente. Sessenta e seis (N=67) molares humanos hígidos, doados pelo Banco de Dentes da Faculdade de Odontologia de Araraquara, foram selecionados e divididos aleatoriamente, de acordo com o tipo de substrato dentinário: normal (n= 33) e hipermineralizado artificialmente (n=34). Em seguida o grupo de substrato dentinário normal foi subdividido em N-ARC, N-U200 e N-AC+U200 de acordo com o tipo de protocolo de cimentação: RelyX™ ARC, RelyX™ U200 e condicionamento adicional com ácido fosfórico 37% por 15” + RelyX™ U200; e o de substrato hipermineralizado artificialmente foi subdividido em H-ARC, H-U200 e H-AC+U200 seguindo o mesmo protocolo de cimentação. Um (n=1) espécime de cada grupo foi submetido a análise de microscopia eletrônica de varredura (MEV). As cimentações dos cilindros foram realizadas com a ajuda de uma matriz bipartida de teflon. Após período de armazenagem em ambiente úmido por 24 horas a 37°C, os espécimes foram adaptados a um dispositivo para o teste de resistência de união ao microcisalhamento. A análise estatística utilizada foi Two-way ANOVA/Tukey. Não foram encontradas diferença estatística entre os substratos dentinários e os protocolos de cimentação. O cimento resinoso RelyX ARC apresentou maiores valores de resistência de união (N-ARC=77,60 e H-ARC=68,40), independente do substrato. O padrão de fratura predominante foi do tipo adesiva. As imagens de microscopia mostraram que os cimento autoadesivo RelyX U200 é incapaz de formar camada híbrida. Conclui-se que o cimento autoadesivo apresenta resistência de união ao microcisalhamento semelhante ao cimento convencional, independente do substrato dentinário ser normal ou hipermineralizado artificialmente.