Estudo e caracterização da corrosão de silício com plasma de CBrF3 e medidas de propriedades do plasma com sondas de Langmuir. - Yamamoto, Roberto Katsuhiro (1992)
A corrosão por plasma tem sido largamente utilizada na indústria microeletrônica, nas etapas de transferência de padrões. Particularmente, a corrosão de silício é utilizada para obtenção de trincheiras que encontram aplicação em capacitores utilizados em memórias e em isolações de dispositivos em circuitos integrados de alta integração. Com o objetivo de estabelecer um processo de corrosão de silício, foi feita a caracterização deste, utilizando-se o plasma de bromo-trifluor-metano e variando-se as condições de pressão, potência, vazão e composição. Corrosões anisotrópicas resultando perfis adequados as aplicações foram obtidas. A técnica de medida de propriedades do plasma com sondas de Langmuir foi demonstrada, utilizando-se uma sonda auto-compensada. A densidade de íon, a temperatura de elétron, o potencial de plasma e o potencial flutuante foram medidos para os plasmas de argônio, hélio, hidrogênio, oxigênio e nitrogênio, em função da pressão, potência, vazão e posição da sonda. Finalmente, a aplicação da sonda de Langmuir no estudo da corrosão por plasma foi mostrada, para o caso particular da corrosão de polímeros com plasma de oxigênio.