Análise biomecânica pelo método de elementos finitos da distribuição de tensões em implantes de conexão cônica e osso peri-implantar com diferentes profundidades ósseas conectados a pilares sólidos de diferentes diâmetros - Pinchulef, Balter Sergio Toro (2019)
O sucesso da reabilitação com implantes está baseado principalmente na adequada distribuição das tensões mecânicas ao osso circundante, a qual pode ser influenciada pelo tipo de conexão, dimensões do pilar protético, dimensões do implante, geometria e profundidade de inserção. O objetivo deste estudo foi avaliar a magnitude e distribuição de tensões ao osso peri-implantar através da utilização de implantes de conexão cônica posicionados em diferentes níveis da crista óssea e conectados a pilares protéticos sólidos de diferentes diâmetros, por meio do método tridimensional de elementos finitos. Para isso, foram confeccionados quatro modelos tridimensionais: A-1.5 (Implante equicristal conectado a um pilar de 3,3 mm de diâmetro); A-3.0 (Implante subcristal conectado a um pilar de 3,3 mm de diâmetro); B-1.5 (Implante equicristal conectado a um pilar de 4,5 mm de diâmetro) e B-3.0 (Implante subcristal conectado a um pilar de 4,5 mm de diâmetro). Todos os modelos foram submetidos a uma carga axial (0°) e oblíqua (30°) de 365 N distribuída em 8 pontos oclusais. Foram analisadas as tensões equivalentes de von Mises (TEvM) para implante e componentes protéticos e as tensões máximas (TMaP) e mínimas principais (TMiP) para o osso peri-implantar. Os resultados mostram que as áreas de maior TEvM ocorreram na interface implante/pilar para todos os modelos, sobretudo sob carga oblíqua. Para o osso peri-implantar os maiores níveis de tensão de tração (TMaP) foram observados no posicionamento subcristal do implante em região de interface entre osso cortical e trabecular, no entanto os maiores níveis de tensão de compressão (TMiP) foram observados para o posicionamento equicristal do implante, em região de crista óssea. Independente da profundidade óssea do implante, foi observado uma diminuição dos valores máximos e da área de concentração de tensões quando foi utilizado um pilar com um maior diâmetro em base de assentamento protético, tanto na interface implante/pilar como para interface implante/osso. Dentro das limitações deste estudo foi possível concluir que a colocação subcristal do implante gerou menores níveis de tensão na crista óssea quando comparado com o posicionamento equicristal do implante e que a utilização de um pilar de maior diâmetro em base de assentamento protético causa uma diminuição de tensões em osso peri-implantar independentemente do tipo de carga e posicionamento do implante.