Estudo do comportamento eletroquímico das ligas Ti-4Si e Ti-12Si em NaCl 3,5% e Etilenoglicol 40% em NaCl 3,5%

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2013
Autor(a) principal: Gonçalves, Haroldo Marques lattes
Orientador(a): Ramires, Ivan lattes
Banca de defesa: Silva, Rodrigo Amorim Bezerra da lattes, Aguiar Pinto, Antonio Cesar lattes
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Universidade Federal da Grande Dourados
Programa de Pós-Graduação: Programa de pós-graduação em Química
Departamento: Faculdade de Ciências Exatas e Tecnologia
País: Brasil
Palavras-chave em Português:
Eletroquímica
Espectroscopia dielétrica
Dielectric spectroscopy
Corrosão
Corrosion
Palavras-chave em Inglês:
Electrochemical
Área do conhecimento CNPq:
CNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::QUIMICA
Link de acesso: http://repositorio.ufgd.edu.br/jspui/handle/prefix/884
Resumo: No presente trabalho, a resistência à corrosão das ligas Titânio-Silício foi estudada empregando técnicas eletroquímicas, tais como: Polarização Potenciodinâmica, Voltametria Cíclica e Espectroscopia de Impedância Eletroquímica, complementada com a análise de superfície, utilizando-se microscópio óptico. As soluções utilizadas para os ensaios eletroquímicos foram o NaCl 3,5% (m/v) e Etilenoglicol 40 % (v/v) em NaCl 3,5 % (m/v). Os resultados obtidos evidenciaram que as ligas estudadas possuem uma alta resistência à corrosão, com correntes de corrosão baixas e resistência de polarização alta. Os espectros de Impedância Eletroquímica indicaram que o filme de óxido, formado na superfície das ligas, é constituído de uma camada compacta e uma camada porosa, que não se forma na presença de Etilenoglicol na faixa de – 1,0 a 3,0 V. As micrografias feitas após os ensaios de polarização e impedância eletroquímica não mostraram ataques por pites ou frestas.
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Dissertação (Mestrado em Química) – Faculdade de Ciências Exatas e Tecnologia, Universidade Federal da Grande Dourados, Dourados, MS, 2013.http://repositorio.ufgd.edu.br/jspui/handle/prefix/884No presente trabalho, a resistência à corrosão das ligas Titânio-Silício foi estudada empregando técnicas eletroquímicas, tais como: Polarização Potenciodinâmica, Voltametria Cíclica e Espectroscopia de Impedância Eletroquímica, complementada com a análise de superfície, utilizando-se microscópio óptico. As soluções utilizadas para os ensaios eletroquímicos foram o NaCl 3,5% (m/v) e Etilenoglicol 40 % (v/v) em NaCl 3,5 % (m/v). Os resultados obtidos evidenciaram que as ligas estudadas possuem uma alta resistência à corrosão, com correntes de corrosão baixas e resistência de polarização alta. Os espectros de Impedância Eletroquímica indicaram que o filme de óxido, formado na superfície das ligas, é constituído de uma camada compacta e uma camada porosa, que não se forma na presença de Etilenoglicol na faixa de – 1,0 a 3,0 V. As micrografias feitas após os ensaios de polarização e impedância eletroquímica não mostraram ataques por pites ou frestas.In the present work, the resistance to corrosion of titanium-silicon alloy was studied using electrochemical techniques such as polarization, Cyclic Voltammetry and Electrochemical Impedance Spectroscopy, complemented with surface analysis, using an optical microscope. The solutions used for electrochemical tests have been NaCl 3.5% (w / v) ethylene glycol and 40% (v / v) in 3.5% NaCl (w / v). The results showed that the studied alloys have a high corrosion resistance, low corrosion currents and high polarization resistance. Electrochemical Impedance Spectra indicated that the oxide film formed on the surface of the alloy, consists of a compact layer and a porous layer which is not formed in presence of ethylene glycol in the range of - 1.0 to 3.0 V. The micrographs taken after the polarization tests and electrochemical impedance showed no pitting or crevice attack.Submitted by Alison Souza (alisonsouza@ufgd.edu.br) on 2019-05-21T21:02:51Z No. of bitstreams: 1 HaroldoMarquesGoncalves.pdf: 2715839 bytes, checksum: 402847dcf83f5bdd21dcb58248de937c (MD5)Made available in DSpace on 2019-05-21T21:02:51Z (GMT). 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