Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco
Ano de defesa: | 2006 |
---|---|
Autor(a) principal: | |
Orientador(a): | |
Banca de defesa: | |
Tipo de documento: | Tese |
Tipo de acesso: | Acesso aberto |
Idioma: | por |
Instituição de defesa: |
Universidade Federal do Rio Grande do Norte
|
Programa de Pós-Graduação: |
Programa de Pós-Graduação em Física
|
Departamento: |
Física da Matéria Condensada; Astrofísica e Cosmologia; Física da Ionosfera
|
País: |
BR
|
Palavras-chave em Português: | |
Palavras-chave em Inglês: | |
Área do conhecimento CNPq: | |
Link de acesso: | https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16640 |
Resumo: | In the present work we use a plasma jet system with a hollow cathode to deposit thin TiO2 films on silicon substrates as alternative at sol-gel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering techniques. The cylindrical cathode, made from pure titanium, can be negatively polarized between 0 e 1200 V and supports an electrical current of up to 1 A. An Ar/O2 mixture, with a total flux of 20 sccm and an O2 percentage ranging between 0 and 30%, is passed through a cylindrical hole machined in the cathode. The plasma parameters and your influence on the properties of deposited TiO2 films and their deposition rate was studied. When discharge occurs, titanium atoms are sputtered/evaporated. They are transported by the jet and deposited on the Si substrates located on the substrate holder facing the plasma jet system at a distance ranging between10 and 50 mm from the cathode. The working pressure was 10-3 mbar and the deposition time was 10 -60 min. Deposited films were characterized by scanning electron microscopy and atomic force microscopy to check the film uniformity and morphology and by X-ray diffraction to analyze qualitatively the phases present. Also it is presented the new dispositive denominate ionizing cage, derived from the active screen plasma nitriding (ASPN), but based in hollow cathode effect, recently developed. In this process, the sample was involved in a cage, in which the cathodic potential was applied. The samples were placed on an insulator substrate holder, remaining in a floating potential, and then it was treated in reactive plasma in hollow cathode regime. Moreover, the edge effect was completely eliminated, since the plasma was formed on the cage and not directly onto the samples and uniformity layer was getting in all sampl |
id |
UFRN_69ab41a7dee69e26f470ca9a6076f717 |
---|---|
oai_identifier_str |
oai:https://repositorio.ufrn.br:123456789/16640 |
network_acronym_str |
UFRN |
network_name_str |
Repositório Institucional da UFRN |
repository_id_str |
|
spelling |
Araújo, Francisco Odolberto dehttp://lattes.cnpq.br/7441669258580942Petraconi Filho, Gilbertohttp://lattes.cnpq.br/9186923914430935Costa, José Alzamir Pereira dahttp://lattes.cnpq.br/5592146590288686Carriço, Artur da Silvahttp://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4787041Z8Santos, Janilohttp://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4763288H3Alves Júnior, Clodomiro2014-12-17T15:15:02Z2007-06-272014-12-17T15:15:02Z2006-12-15ARAÚJO, Francisco Odolberto de. Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco. 2006. 113 f. Tese (Doutorado em Física da Matéria Condensada; Astrofísica e Cosmologia; Física da Ionosfera) - Universidade Federal do Rio Grande do Norte, Natal, 2006.https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16640In the present work we use a plasma jet system with a hollow cathode to deposit thin TiO2 films on silicon substrates as alternative at sol-gel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering techniques. The cylindrical cathode, made from pure titanium, can be negatively polarized between 0 e 1200 V and supports an electrical current of up to 1 A. An Ar/O2 mixture, with a total flux of 20 sccm and an O2 percentage ranging between 0 and 30%, is passed through a cylindrical hole machined in the cathode. The plasma parameters and your influence on the properties of deposited TiO2 films and their deposition rate was studied. When discharge occurs, titanium atoms are sputtered/evaporated. They are transported by the jet and deposited on the Si substrates located on the substrate holder facing the plasma jet system at a distance ranging between10 and 50 mm from the cathode. The working pressure was 10-3 mbar and the deposition time was 10 -60 min. Deposited films were characterized by scanning electron microscopy and atomic force microscopy to check the film uniformity and morphology and by X-ray diffraction to analyze qualitatively the phases present. Also it is presented the new dispositive denominate ionizing cage, derived from the active screen plasma nitriding (ASPN), but based in hollow cathode effect, recently developed. In this process, the sample was involved in a cage, in which the cathodic potential was applied. The samples were placed on an insulator substrate holder, remaining in a floating potential, and then it was treated in reactive plasma in hollow cathode regime. Moreover, the edge effect was completely eliminated, since the plasma was formed on the cage and not directly onto the samples and uniformity layer was getting in all samplFilmes finos de TiO2 foram depositados sobre substrato de silício usando descarga em cátodo oco. A presente técnica foi usada como alternativa a outras técnicas como solgel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering. O sistema desenvolvido apresenta uma configuração de cátodo oco cilíndrico polarizado com tensão DC variando entre 0 e 1200V e corrente de até 1 A. Um jato de plasma de Ar + O2, extrai átomos do mesmo, que são em seguida depositados sobre um substrato frontalmente posicionado. As amostras são posicionadas a distâncias do cátodo variando entre 10 e 50 mm. Foram investigadas os parâmetros do plasma e sua influência sobre as propriedades dos filmes depositados. Os parâmetros de trabalho para deposição de TiO2 foram 20sccm de fluxo da mistura Ar/O2 com percentuais de oxigênio variando entre 0 -30%, pressão de trabalho 10-3 mbar e tempos de deposição de 10 -60 minutos. As amostras foram caracterizadas por microscopia eletrônica de varredura e microscopia de força atômica para verificar sua uniformidade e morfologia e por difração de raios-x para análise qualitativa das fases presentes nos filmes. Neste trabalho também é apresentado um novo dispositivo, denominado gaiola ionizante, derivada da nitretação a plasma em tela ativa (ASPN), mas baseado no efeito de cátodo oco, recentemente desenvolvido. Neste processo as amostras são envolvidas por uma gaiola, na qual é aplicada a diferença de potencial, permanecendo em potencial flutuante, sendo tratadas numa região livre da influência do campo elétrico por um plasma reativo, operando em regime de cátodo oco. Dessa forma foram obtidas camadas uniformes em todas as amostras e eliminados defeitos como o efeito de bordaConselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológicoapplication/pdfporUniversidade Federal do Rio Grande do NortePrograma de Pós-Graduação em FísicaUFRNBRFísica da Matéria Condensada; Astrofísica e Cosmologia; Física da IonosferaFilmes finosSubstrato de silícioCátodo ocoProcesso sol-gelGaiola ionizanteFilmsSilicon substratesHollow cathodeSol-gel processIonizing cageCNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICADesenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo ocoinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UFRNinstname:Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN)instacron:UFRNORIGINALFranciscoOA.pdfapplication/pdf1713095https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/16640/1/FranciscoOA.pdf1ee138883bf7b4da570838f6654b21b0MD51TEXTFranciscoOA.pdf.txtFranciscoOA.pdf.txtExtracted texttext/plain136014https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/16640/6/FranciscoOA.pdf.txtc0b38c9be415d4d121dfa10d76f5cc92MD56THUMBNAILFranciscoOA.pdf.jpgFranciscoOA.pdf.jpgIM Thumbnailimage/jpeg4399https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/16640/7/FranciscoOA.pdf.jpg53e4ec0a3306a7fddba0aa582e9da03bMD57123456789/166402017-11-04 02:23:39.441oai:https://repositorio.ufrn.br:123456789/16640Repositório de PublicaçõesPUBhttp://repositorio.ufrn.br/oai/opendoar:2017-11-04T05:23:39Repositório Institucional da UFRN - Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN)false |
dc.title.por.fl_str_mv |
Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco |
title |
Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco |
spellingShingle |
Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco Araújo, Francisco Odolberto de Filmes finos Substrato de silício Cátodo oco Processo sol-gel Gaiola ionizante Films Silicon substrates Hollow cathode Sol-gel process Ionizing cage CNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA |
title_short |
Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco |
title_full |
Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco |
title_fullStr |
Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco |
title_full_unstemmed |
Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco |
title_sort |
Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco |
author |
Araújo, Francisco Odolberto de |
author_facet |
Araújo, Francisco Odolberto de |
author_role |
author |
dc.contributor.authorID.por.fl_str_mv |
|
dc.contributor.advisorID.por.fl_str_mv |
|
dc.contributor.advisorLattes.por.fl_str_mv |
http://lattes.cnpq.br/7441669258580942 |
dc.contributor.referees1.pt_BR.fl_str_mv |
Petraconi Filho, Gilberto |
dc.contributor.referees1ID.por.fl_str_mv |
|
dc.contributor.referees1Lattes.por.fl_str_mv |
http://lattes.cnpq.br/9186923914430935 |
dc.contributor.referees2.pt_BR.fl_str_mv |
Costa, José Alzamir Pereira da |
dc.contributor.referees2ID.por.fl_str_mv |
|
dc.contributor.referees2Lattes.por.fl_str_mv |
http://lattes.cnpq.br/5592146590288686 |
dc.contributor.referees3.pt_BR.fl_str_mv |
Carriço, Artur da Silva |
dc.contributor.referees3ID.por.fl_str_mv |
|
dc.contributor.referees3Lattes.por.fl_str_mv |
http://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4787041Z8 |
dc.contributor.referees4.pt_BR.fl_str_mv |
Santos, Janilo |
dc.contributor.referees4ID.por.fl_str_mv |
|
dc.contributor.referees4Lattes.por.fl_str_mv |
http://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4763288H3 |
dc.contributor.author.fl_str_mv |
Araújo, Francisco Odolberto de |
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv |
Alves Júnior, Clodomiro |
contributor_str_mv |
Alves Júnior, Clodomiro |
dc.subject.por.fl_str_mv |
Filmes finos Substrato de silício Cátodo oco Processo sol-gel Gaiola ionizante |
topic |
Filmes finos Substrato de silício Cátodo oco Processo sol-gel Gaiola ionizante Films Silicon substrates Hollow cathode Sol-gel process Ionizing cage CNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA |
dc.subject.eng.fl_str_mv |
Films Silicon substrates Hollow cathode Sol-gel process Ionizing cage |
dc.subject.cnpq.fl_str_mv |
CNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA |
description |
In the present work we use a plasma jet system with a hollow cathode to deposit thin TiO2 films on silicon substrates as alternative at sol-gel, PECVD, dip-coating e magnetron sputtering techniques. The cylindrical cathode, made from pure titanium, can be negatively polarized between 0 e 1200 V and supports an electrical current of up to 1 A. An Ar/O2 mixture, with a total flux of 20 sccm and an O2 percentage ranging between 0 and 30%, is passed through a cylindrical hole machined in the cathode. The plasma parameters and your influence on the properties of deposited TiO2 films and their deposition rate was studied. When discharge occurs, titanium atoms are sputtered/evaporated. They are transported by the jet and deposited on the Si substrates located on the substrate holder facing the plasma jet system at a distance ranging between10 and 50 mm from the cathode. The working pressure was 10-3 mbar and the deposition time was 10 -60 min. Deposited films were characterized by scanning electron microscopy and atomic force microscopy to check the film uniformity and morphology and by X-ray diffraction to analyze qualitatively the phases present. Also it is presented the new dispositive denominate ionizing cage, derived from the active screen plasma nitriding (ASPN), but based in hollow cathode effect, recently developed. In this process, the sample was involved in a cage, in which the cathodic potential was applied. The samples were placed on an insulator substrate holder, remaining in a floating potential, and then it was treated in reactive plasma in hollow cathode regime. Moreover, the edge effect was completely eliminated, since the plasma was formed on the cage and not directly onto the samples and uniformity layer was getting in all sampl |
publishDate |
2006 |
dc.date.issued.fl_str_mv |
2006-12-15 |
dc.date.available.fl_str_mv |
2007-06-27 2014-12-17T15:15:02Z |
dc.date.accessioned.fl_str_mv |
2014-12-17T15:15:02Z |
dc.type.status.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/doctoralThesis |
format |
doctoralThesis |
status_str |
publishedVersion |
dc.identifier.citation.fl_str_mv |
ARAÚJO, Francisco Odolberto de. Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco. 2006. 113 f. Tese (Doutorado em Física da Matéria Condensada; Astrofísica e Cosmologia; Física da Ionosfera) - Universidade Federal do Rio Grande do Norte, Natal, 2006. |
dc.identifier.uri.fl_str_mv |
https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16640 |
identifier_str_mv |
ARAÚJO, Francisco Odolberto de. Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para reposição de filmes finos por descarga em cátodo oco. 2006. 113 f. Tese (Doutorado em Física da Matéria Condensada; Astrofísica e Cosmologia; Física da Ionosfera) - Universidade Federal do Rio Grande do Norte, Natal, 2006. |
url |
https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16640 |
dc.language.iso.fl_str_mv |
por |
language |
por |
dc.rights.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/openAccess |
eu_rights_str_mv |
openAccess |
dc.format.none.fl_str_mv |
application/pdf |
dc.publisher.none.fl_str_mv |
Universidade Federal do Rio Grande do Norte |
dc.publisher.program.fl_str_mv |
Programa de Pós-Graduação em Física |
dc.publisher.initials.fl_str_mv |
UFRN |
dc.publisher.country.fl_str_mv |
BR |
dc.publisher.department.fl_str_mv |
Física da Matéria Condensada; Astrofísica e Cosmologia; Física da Ionosfera |
publisher.none.fl_str_mv |
Universidade Federal do Rio Grande do Norte |
dc.source.none.fl_str_mv |
reponame:Repositório Institucional da UFRN instname:Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN) instacron:UFRN |
instname_str |
Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN) |
instacron_str |
UFRN |
institution |
UFRN |
reponame_str |
Repositório Institucional da UFRN |
collection |
Repositório Institucional da UFRN |
bitstream.url.fl_str_mv |
https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/16640/1/FranciscoOA.pdf https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/16640/6/FranciscoOA.pdf.txt https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/16640/7/FranciscoOA.pdf.jpg |
bitstream.checksum.fl_str_mv |
1ee138883bf7b4da570838f6654b21b0 c0b38c9be415d4d121dfa10d76f5cc92 53e4ec0a3306a7fddba0aa582e9da03b |
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv |
MD5 MD5 MD5 |
repository.name.fl_str_mv |
Repositório Institucional da UFRN - Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN) |
repository.mail.fl_str_mv |
|
_version_ |
1797777787496431616 |