Eletrodeposição de filmes finos de Cu2O dopados com Co

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2012
Autor(a) principal: Brandt, Iuri Stefani
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Não Informado pela instituição
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Engenharia eletrica
Óxido de cobre
Semicondutores
Eletrodeposicao
Link de acesso: http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/93893
Resumo: Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro Tecnológico, Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica, Florianópolis, 2010
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