Síntese e caracterização de filmes finos de TeO2 obtidos pelo método Pechini em substratos amorfo e cristalino

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2023
Autor(a) principal: Bataliotti, Murilo Dobri
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Tese
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Universidade Estadual Paulista (Unesp)
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Dióxido de telúrio
Filmes finos
Método Pechini
Substrato cristalino
Substrato amorfo
Tellurium dioxide
Thin films
Pechini method
Crystalline substrate
Amorphous substrate
Link de acesso: http://hdl.handle.net/11449/250785
Resumo: O objetivo desta investigação foi sintetizar e caracterizar filmes finos de dióxido de telúrio (TeO2) obtidos pelo método Pechini. Os filmes finos foram depositados sobre substratos amorfo e cristalino, os quais tratados termicamente em diferentes temperaturas (350°C a 500°C para substrato cristalino e 350°C a 390°C no substrato amorfo). As temperaturas de tratamento térmico foram definidas a partir dos dados de análise térmica diferencial termogravimétrica (TG/DTA) do gel precursor. Os efeitos do tratamento térmico nas propriedades estruturais foram investigados por difração de raios X (DRX), microscopia de força atômica (AFM) e espectroscopia Raman. Os dados do TG/DTA mostraram três etapas diferentes de perda de massa devido à redução do ácido telúrico a telúrio, remoção do excesso de etileno glicol, decomposição do ácido cítrico e degradação do poliéster. Os dados de DRX e Raman dos filmes finos em substrato cristalino mostraram a presença das fases γ- e α-TeO2 nos filmes tratados a 400–500°C. Os parâmetros de rede das fases cristalinas observadas foram determinados por refinamento de Rietveld, com o qual foi possível avaliar o tamanho do cristalito e a microdeformação pelo método de Williamson-Hall. Nos filmes depositados em substrato amorfo, as análises de DRX e Raman mostraram a presença das fases γ- e α-TeO2 nos filmes tratados a 350°C e 390°C. Em ambos os substratos a temperatura de tratamento térmico influenciou diretamente no tamanho do cristalito e na rugosidade superficial dos filmes, que apresentaram comportamentos semelhantes com a temperatura.
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