Appolinario, M. B. [. (2013). Propriedades químicas e ópticas de filmes de carbono amorfo halogenados produzidos por deposição a vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (DIIIP).
Referência de acordo com a norma ChicagoAppolinario, Marcelo Borgatto [UNESP]. Propriedades Químicas E ópticas De Filmes De Carbono Amorfo Halogenados Produzidos Por Deposição a Vapor Químico Assistido Por Plasma (PECVD) E Deposição E Implantação Iônica Por Imersão Em Plasma (DIIIP). 2013.
Referência de acordo com a norma MLAAppolinario, Marcelo Borgatto [UNESP]. Propriedades Químicas E ópticas De Filmes De Carbono Amorfo Halogenados Produzidos Por Deposição a Vapor Químico Assistido Por Plasma (PECVD) E Deposição E Implantação Iônica Por Imersão Em Plasma (DIIIP). 2013.