Rossi, D. [. (2015). Caracterização de Filmes a-C: H:Cl e a-C:H:Si:Cl produzidos por deposição à vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID).
Referência de acordo com a norma ChicagoRossi, Diego [UNESP]. Caracterização De Filmes A-C: H:Cl E A-C:H:Si:Cl Produzidos Por Deposição à Vapor Químico Assistido Por Plasma (PECVD) E Deposição E Implantação Iônica Por Imersão Em Plasma (PIIID). 2015.
Referência de acordo com a norma MLARossi, Diego [UNESP]. Caracterização De Filmes A-C: H:Cl E A-C:H:Si:Cl Produzidos Por Deposição à Vapor Químico Assistido Por Plasma (PECVD) E Deposição E Implantação Iônica Por Imersão Em Plasma (PIIID). 2015.
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