Otimiza??o de par?metros no processo de pulveriza??o cat?dica "Sputtering" em substrato particulado

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2023
Autor(a) principal: Lisb?a, Allan de Moraes
Orientador(a): Hubler, Roberto
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Tese
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Pontif?cia Universidade Cat?lica do Rio Grande do Sul
Programa de Pós-Graduação: Programa de P?s-Gradua??o em Engenharia e Tecnologia de Materiais
Departamento: Escola Polit?cnica
País: Brasil
Palavras-chave em Português:
Sputtering
Semicondutor
P?
Nanopart?culas de Ouro
Palavras-chave em Inglês:
Sputtering
Semiconductor
Powder
Gold Nanoparticles
Área do conhecimento CNPq:
ENGENHARIAS
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