Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2012
Autor(a) principal: Albuquerque, Diego Aparecido Carvalho
Orientador(a): Cruz, Térsio Guilherme de Souza lattes
Banca de defesa: Arnold, Francisco José
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Universidade Federal de São Carlos
Programa de Pós-Graduação: Programa de Pós-Graduação em Ciência dos Materiais - PPGCM-So
Departamento: Não Informado pela instituição
País: BR
Palavras-chave em Português:
filmes ultrafinos
óxido de titânio
sputtering
Palavras-chave em Inglês:
thin films
titanium oxide
sputtering
óptical properties
afm
roughness
fractal dimension
Área do conhecimento CNPq:
CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA::FISICA DA MATERIA CONDENSADA
Link de acesso: https://repositorio.ufscar.br/handle/20.500.14289/1167
Resumo: This work studied ultrathin films of titanium oxide deposited by the technique r. f. reactive sputtering with different oxygen flows and different deposition times. Optical properties were studied (ultra-violeta/Visível) and the surface morphology (Atomic Force Microscopy). The composition and structural properties of the films were analyzed by X-ray diffraction and Rutherford Backscattering Spectroscopy. The films are amorphous and rough (fractal dimension around 2.6 to 2.7 and roughness around 1.6 to 2.5 nm). The stoichiometry was fairly close to the titanium dioxide (TiO2). The optical energy Gap obtained by three different models presented values between 3.0 to 3.5 eV.
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