Desenvolvimento de uma ferramenta semi-automática para diagnóstico de plasmas frios aplicados à indústria de semicondutores

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2023
Autor(a) principal: Cicareli, Rodrigo dos Santos
Orientador(a): Cirino, Giuseppe Antonio lattes
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Universidade Federal de São Carlos
Câmpus São Carlos
Programa de Pós-Graduação: Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica - PPGEE
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Palavras-chave em Inglês:
Área do conhecimento CNPq:
Link de acesso: https://repositorio.ufscar.br/handle/20.500.14289/18842
Resumo: Technological applications involving plasma processing steps are quite common. With no doubt, the semiconductor industry has a relevant impact on the daily life of contemporary society. The manufacture of integrated circuits is strongly related to the technological domain of plasma assisted processes. Such processes promote deposition and/or etching of thin films, whether metallic or dielectric. Among the various plasma diagnostic techniques, the electrostatic probe (or Langmuir probe) is a versatile and low-cost tool. Through this technique, it is possible to determine electrical parameters of plasma, such as electron and ion density, mean energy of the electron distribution, floating potential and plasma potential [1]. This work intends to develop a semi-automatic numerical tool for data acquisition, conditioning and processing, aiming to determine the electrical parameters of cold plasmas, used in dry etching processes. This automation consists of data acquisition from an analog/digital converter (A/D) with the help of LabView software and the analysis of the characteristic curve of plasmas using the electrostatic probe technique for single probes through Matlab software.
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Such processes promote deposition and/or etching of thin films, whether metallic or dielectric. Among the various plasma diagnostic techniques, the electrostatic probe (or Langmuir probe) is a versatile and low-cost tool. Through this technique, it is possible to determine electrical parameters of plasma, such as electron and ion density, mean energy of the electron distribution, floating potential and plasma potential [1]. This work intends to develop a semi-automatic numerical tool for data acquisition, conditioning and processing, aiming to determine the electrical parameters of cold plasmas, used in dry etching processes. This automation consists of data acquisition from an analog/digital converter (A/D) with the help of LabView software and the analysis of the characteristic curve of plasmas using the electrostatic probe technique for single probes through Matlab software.Aplicações tecnológicas que envolvem etapas de processamento por plasmas são bastante comuns. Sem dúvida, a indústria de semicondutores tem um impacto relevante no dia a dia da sociedade contemporânea. A fabricação de circuitos integrados está fortemente relacionada ao domínio tecnológico de processos assistidos por plasmas. Tais processos promovem deposição e/ou corrosão de filmes finos, sejam eles metálicos ou dielétricos. Dentre as várias técnicas de diagnóstico de plasmas, a sonda eletrostática (ou sonda de Langmuir) é uma ferramenta versátil, e de baixo custo. Através desta técnica pode-se determinar parâmetros elétricos de plasma, como a densidade de elétrons e de íons, energia média da distribuição dos elétrons, potencial flutuante e potencial de plasma. Este trabalho pretende desenvolver uma ferramenta numérica semiautomática para aquisição, condicionamento e tratamento de dados, objetivando a determinação dos parâmetros elétricos de plasmas frios, empregados em processos de corrosão a seco (dry etching). Esta automação consiste na aquisição de dados a partir de um conversor analógico/ digital (A/D) com a ajuda do software LabView e a análise da curva característica de plasmas empregando a técnica de sonda eletrostática para sondas simples através do software Matlab.Não recebi financiamentoporUniversidade Federal de São CarlosCâmpus São CarlosPrograma de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica - PPGEEUFSCarAttribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Brazilhttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/br/info:eu-repo/semantics/openAccessPlasmas friosSonda eletrostáticaAquisiçãoChoque RFMatlabLabviewCold plasmasElectrostatic probeAquisitionRF shockENGENHARIAS::ENGENHARIA ELETRICA::CIRCUITOS ELETRICOS, MAGNETICOS E ELETRONICOSDesenvolvimento de uma ferramenta semi-automática para diagnóstico de plasmas frios aplicados à indústria de semicondutoresDevelopment of a semi-automatic tool for diagnosing cold plasmas applied to the semiconductor industryinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesis600600c0aaede7-d5d7-43b0-8708-a721a0c12ecereponame:Repositório Institucional da UFSCARinstname:Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR)instacron:UFSCARCC-LICENSElicense_rdflicense_rdfapplication/rdf+xml; charset=utf-8810https://repositorio.ufscar.br/bitstreams/233877ea-c13d-4480-87bc-12430938aa5d/downloadf337d95da1fce0a22c77480e5e9a7aecMD52falseAnonymousREADORIGINALTCC_RodrigoDosSantosCicareli_Final+CartaAprovacao_v2.pdfTCC_RodrigoDosSantosCicareli_Final+CartaAprovacao_v2.pdfDissertação definitiva com a carta de aprovação a BCoapplication/pdf1803796https://repositorio.ufscar.br/bitstreams/30c443f3-a17b-420b-9e24-e29c07a70d81/downloadbd2ac637cf98b4211ce840ab99247ffcMD51trueAnonymousREADTEXTTCC_RodrigoDosSantosCicareli_Final+CartaAprovacao_v2.pdf.txtTCC_RodrigoDosSantosCicareli_Final+CartaAprovacao_v2.pdf.txtExtracted texttext/plain65363https://repositorio.ufscar.br/bitstreams/22765fd9-1985-4edc-aa3a-8d1360e47993/download7906be10ce23dcabad2677fbeda6547eMD53falseAnonymousREADTHUMBNAILTCC_RodrigoDosSantosCicareli_Final+CartaAprovacao_v2.pdf.jpgTCC_RodrigoDosSantosCicareli_Final+CartaAprovacao_v2.pdf.jpgIM Thumbnailimage/jpeg6997https://repositorio.ufscar.br/bitstreams/44c655df-b89e-44f3-b4b6-fd51901556e9/download5858573cbd33d8e9aad81996e84169c6MD54falseAnonymousREAD20.500.14289/188422025-02-06 00:41:14.601http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/br/Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Brazilopen.accessoai:repositorio.ufscar.br:20.500.14289/18842https://repositorio.ufscar.brRepositório InstitucionalPUBhttps://repositorio.ufscar.br/oai/requestrepositorio.sibi@ufscar.bropendoar:43222025-02-06T03:41:14Repositório Institucional da UFSCAR - Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR)false
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