Preparação de filmes finos de TiO2 em substratos vítreos e cracterização da bioatividade

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2011
Autor(a) principal: Pimenta, Juliana de Oliveira lattes
Orientador(a): Tebcherani, Sérgio Mazurek lattes
Banca de defesa: Kubaski, Evaldo Toniolo lattes, Chinelatto, Adriana Scoton Antônio lattes
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE PONTA GROSSA
Programa de Pós-Graduação: Programa de Pós-Graduação em Engenharia e Ciências de Materiais
Departamento: Desenvolvimento e Caracterização de Materiais
País: BR
Palavras-chave em Português:
filmes finos, bacteriostático, dióxido de titânio, impregnação forçada
Palavras-chave em Inglês:
thin films, bacteriostatic, titanium dioxide, forced impregnation
Área do conhecimento CNPq:
CNPQ::ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA
Link de acesso: http://tede2.uepg.br/jspui/handle/prefix/1401
Resumo: This work presents a study on the preparation of titanium dioxide thin films (TiO2) on a substrate of glass slides using the forced impregnation method for control of pressure and temperature. A temperature of 320 ° C with a constant pressure of 1,80 MPa was used to prepare the films; the samples were exposed for 24 hours at this condition. The films were characterized by X-ray diffraction which confirmed the presence of TiO2 on the surface of the substrate and the morphology was analyzed by conventional and field-emission gun scanning electron microscopy. The films of titanium dioxide were used for bacteriological testing. The controlled variables in the bacteriological tests were: the temperature for bacterial growth, growth time, sterilization of the environment and materials and quality of bacterial medium cultures. The bioactivity of TiO2 was tested with Escherichia coli by standard method, with growth in an oven for 24h at 37 °C and analyzed by absorption spectrophotometry with readings in the range of 600nm. The films showed effective bacteriostatic by growth inhibiting the growth of Escherichia coli compared to substrates without film. (Σlog Abs = 73,7 with film against Σlog Abs = 75,0 without thin film E ±10-1).
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