Estudo da condutividade elétrica transversal de MoS2
| Ano de defesa: | 2018 |
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| Tipo de documento: | Dissertação |
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| Palavras-chave em Português: | |
| Link de acesso: | http://www.repositorio.ufc.br/handle/riufc/44465 |
Resumo: | This Masters work studies the transversal electronical transport in thin films crystal structures of MoS2 for its chacacterization in nanometric scale, facilitating its application in nanotechnology. The Atomic Force Microscopy (AFM) technique is used, in special the Conductive mode (CAFM). MoS2 is a semiconductor with interesting properties that have been largely studied in the last years. The characterization we seek shall tell us about the bidimensional criytal’s electrical conductivity, transversal to its crystal plane, when varying the tip’s applied voltage and pressure. For this purpose the CAFM aplies a voltage difference between the tip of the microscope and the substract holding the sample, thus measuring the electrical current transversal to the Molibdenum Disulfide plane. Different electronical transport mechanisms can be the source of the currents measured by this technique. The measured current grows with the increment of the voltage and applied preassure. A DiodeResistor-Diode model is proposed to simulate the experiment and, with it, it's found that the resistence's value decreases with higher applied pressures. It is also found that the Schottky barrier in the semiconductor-metal tip interface has its potential height altered due to the variations in the applied pressure by the tip. |
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Araújo, Daniel Brito deBarros, Eduardo Bedê2019-08-05T20:32:44Z2019-08-05T20:32:44Z2018ARAÚJO, D. B. Estudo da condutividade elétrica transversal de MoS2. 2018. 36 f. Dissertação (Mestrado em Física) – Centro de Ciências, Universidade Federal do Ceará, Fortaleza, 2018.http://www.repositorio.ufc.br/handle/riufc/44465This Masters work studies the transversal electronical transport in thin films crystal structures of MoS2 for its chacacterization in nanometric scale, facilitating its application in nanotechnology. The Atomic Force Microscopy (AFM) technique is used, in special the Conductive mode (CAFM). MoS2 is a semiconductor with interesting properties that have been largely studied in the last years. The characterization we seek shall tell us about the bidimensional criytal’s electrical conductivity, transversal to its crystal plane, when varying the tip’s applied voltage and pressure. For this purpose the CAFM aplies a voltage difference between the tip of the microscope and the substract holding the sample, thus measuring the electrical current transversal to the Molibdenum Disulfide plane. Different electronical transport mechanisms can be the source of the currents measured by this technique. The measured current grows with the increment of the voltage and applied preassure. A DiodeResistor-Diode model is proposed to simulate the experiment and, with it, it's found that the resistence's value decreases with higher applied pressures. It is also found that the Schottky barrier in the semiconductor-metal tip interface has its potential height altered due to the variations in the applied pressure by the tip.Este trabalho de mestrado estuda o transporte eletrônico transversal em poucas camadas de MoS2 para a melhor compreensão das suas propriedades e permitindo avanços na suas aplicações tecnológicas. Para isso, é utilizada a técnica de Microscopia de Força Atômica (AFM – do inglês) em especial o modo Condutivo da técnica (CAFM). O MoS2 é um semicondutor de propriedades interessantes que tem sido amplamente estudado nos últimos anos. A caracterização que buscamos nos diz sobre o comportamento da condutividade elétrica do cristal bidimensional de MoS2, transversal ao plano cristalino, em função da voltagem e da pressão aplicadas pela sonda da AFM. Para isso o CAFM aplica uma diferença de potencial entre a ponta do microscópio e o substrato em que a amostra está depositada, medindo uma corrente elétrica transversal ao plano de dissulfeto de molibdênio. Diferentes mecanismos de transporte eletrônico podem dar origem às correntes medidas por essa técnica. A corrente medida cresce com o aumento da voltagem e da pressão aplicada. Um modelo de diodo-resistor-diodo é proposto para simular o experimento e é encontrado que o valor da resistência decresce com o aumento da pressão, também é encontrado que a barreira de Schottky na interface Semicondutor-Ponta (metal) tem sua altura potencial alterada com a variação da pressão aplicada pela sonda.Dissulfeto de molibdênioCondutividade elétricaMicroscopia de força atômicaEstudo da condutividade elétrica transversal de MoS2info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisporreponame:Repositório Institucional da Universidade Federal do Ceará (UFC)instname:Universidade Federal do Ceará (UFC)instacron:UFCinfo:eu-repo/semantics/openAccessORIGINAL2019_dis_dbaraújo.pdf2019_dis_dbaraújo.pdfapplication/pdf1750348http://repositorio.ufc.br/bitstream/riufc/44465/1/2019_dis_dbara%c3%bajo.pdfbc7d25151d8e06ca81589d55e59e9d5cMD51LICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-81748http://repositorio.ufc.br/bitstream/riufc/44465/2/license.txt8a4605be74aa9ea9d79846c1fba20a33MD52riufc/444652019-08-05 17:32:44.976oai:repositorio.ufc.br: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Repositório InstitucionalPUBhttp://www.repositorio.ufc.br/ri-oai/requestbu@ufc.br || repositorio@ufc.bropendoar:2019-08-05T20:32:44Repositório Institucional da Universidade Federal do Ceará (UFC) - Universidade Federal do Ceará (UFC)false |
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