Efeito da deposição de filme fino à base de sílica no comportamento adesivo de superfícies de cerâmica Y-TZP submetidas à diferentes tratamentos

• Ano de defesa: 2024
• Autor(a) principal: Barquete, Carolina Guedes
• Tipo de documento: Tese
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• dARK ID: ark:/87559/00130000085dn
• Idioma: por
• Palavras-chave em Português: Cerâmica; Zircônio; Ítrio; Plasma; Cimento de resina; Resistência; Porcelana dentária; Cimentos de resina; Adesividade; Ceramic; Zirconium; Yttrio; Resin cements; Strenght
• Link de acesso: https://app.uff.br/riuff/handle/1/33428

Um método de potencializar a união de cerâmicas de zircônia tetragonal policristalina estabilizada com Ítrio (Y-TZP) com um cimento resinoso é através da deposição de sílica sobre a superfície, criando a possibilidade de ligação entre essa e o agente de união silano. O objetivo do presente estudo foi avaliar o efeito da deposição de filme à base de hexametildisiloxano (HMDSO) e de diferentes tratamentos superficiais, aplicados após a deposição, na energia de superfície e na resistência de união entre um cimento resinoso autoadesivo e uma cerâmica de ZrO2 tetragonal policristalina estabilizada com Ítrio. Blocos de Lava Frame (3M) foram seccionados e sinterizados para obtenção de 200 placas, que foram aleatoriamente divididas em dois grupos: AS, superfícies sinterizadas e APA, superfícies jateadas com partículas de Al2O3 de 50 μm. A deposição do filme de HMDSO ocorreu em um reator de plasma pelo sistema PECVD durante 20 min. Os grupos AS e APA foram subdivididos em 5 grupos, de acordo com o pós tratamento: controle; ASSiHF e APASiHF, condicionamento com ácido fluorídrico (HF) por 5 segundos; ASSiAr e APASiAr, condicionamento com plasma de argônio por 30 segundos; ASSiArHF e APASiArHF, plasma de argônio por 30 segundos e condicionamento com HF. As superfícies tratadas foram caracterizadas por espectroscopia vibracional no infravermelho (FTIR) e microscopia eletrônica de varredura (MEV). A energia de superfície foi mensurada através de goniometria. Para análise da resistência de união por microcisalhamento, os grupos após o condicionamento com HF e plasma de argônio receberam uma camada de silano. As análises estatísticas foram realizadas através de análise de variância e teste Tukey HSD (α=0.05). A deposição de HMDSO tornou a superfície hidrófoba, mas os grupos SiHF e SiArHF, tanto liso e jateado, tiveram um aumento significante da energia de superfície. Os grupos ASSiHF e ASSiAr com aplicação de silano obtiveram os maiores valores de resistência de união (P < 0.05). Os grupos APA não foram estatisticamente diferentes do controle (P > 0.05). A espectroscopia FTIR mostrou picos de ligações SiH e grupamentos carboxílicos CH3, gerados pela deposição do filme. A análise através de MEV mostrou um fino filme em escala nanométrica. Pode-se concluir que a deposição de filme de HMDSO pode ser um método eficaz de deposição de sílica. Associado ao plasma de argônio e aplicação do silano, o HMDSO aumentou a energia de superfície e a resistência de união do cimento autoadesivo à cerâmica de ZrO2 tetragonal policristalina estabilizada com Ítrio.