Crescimento de grafeno por CVD em folhas de cobre

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2011
Autor(a) principal: Ingrid David Barcelos
Orientador(a): Rodrigo Gribel Lacerda
Banca de defesa: Angelo Malachias de Souza, Leandro Malard Moreira, Mario Sergio de Carvalho Mazzoni
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Universidade Federal de Minas Gerais
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
APCVD
Cobre
Grafeno
Link de acesso: http://hdl.handle.net/1843/JCBV-8PALHG
Resumo: Nesse trabalho estamos interessados em estabelecer uma condição de crescimento de Grafeno por CVD (deposição química na fase vapor) em folhas de Cobre, utilizando alta concentração de metano em pressão atmosférica. Para isso, iniciamos um estudo sobre o crescimento que vai desde o tratamento térmico do substrato até a obtenção de um lme de grafeno de grande área e boa qualidade. Esse lmes foram caracterizados por espectroscopia Raman, e UV-VIS, e microscopia óptica. Análises dos espectros Raman revelam que o lme crescido é constituído por monocamadas de grafeno, com poucos centros de nucleação de carbono, e também apresenta baixa densidade de defeitos. Além disso, medidas de transmit ância do lme foram realizadas mostrando que o grafeno é um material promissor paraaplicações em eletrodos condutores e transparentes.
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