Eletrodeposição de nanoestruturas metálicas em silício nanocristalino

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2002
Autor(a) principal: Munford, Maximiliano Luis
Orientador(a): Pasa, Andre Avelino
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Tese
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Florianópolis, SC
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Link de acesso: http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/83575
Resumo: Tese (doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas. Programa de Pós-Graduação em Física.
id UFSC_795a8816d803ea38c10bb0420fdb376e
oai_identifier_str oai:repositorio.ufsc.br:123456789/83575
network_acronym_str UFSC
network_name_str Repositório Institucional da UFSC
repository_id_str
spelling Universidade Federal de Santa CatarinaMunford, Maximiliano LuisPasa, Andre AvelinoAllongue, Philippe2012-10-20T01:17:03Z2012-10-20T01:17:03Z20022002222615http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/83575Tese (doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas. Programa de Pós-Graduação em Física.O objetivo deste trabalho é a obtenção de nanoestruturas metálicas em superfícies de silício monocristalino empregando métodos eletroquímicos. Foram exploradas concomitantemente duas frentes de pesquisa: (1) preparação de superfícies de silício com padrão de organização nanoscópico; e (2) utilização destas como substrato para a eletrodeposição de nanoestruturas metálicas. Foram analisadas as condições necessárias para a obtenção de superfícies hidrogenadas de silício H-Si(111) com terraços monoatômicos livres de defeitos (pites), preparadas a partir do desbaste químico de lâminas Si(111) em solução de NH4F. A influência dos diferentes parâmetros de preparação foi investigada com medidas eletroquímicas e observações AFM ex-situ. Para obter superfícies H-Si(111) sem pites, foi demonstrado que são indispensáveis tanto a remoção do oxigênio diluído na solução de desbaste quanto a presença da face rugosa da lâmina durante o processo de corrosão. Verificou-se que esta age como um anodo de sacrifício na amostra, polarizando catodicamente a superfície de interesse, protegendo-a da corrosão anódica do silício responsável pela formação de pites nos terraços. As características estruturais das lâminas de partida, determinadas por difração de raios X, influenciam na topografia final da superfície H-Si(111). A quantidade de degraus monoatômicos observados nas imagens AFM destas superfícies é diretamente proporcional à intensidade do desvio entre a direção cristalográfica <111> e a normal à superfície das lâminas de partida. Por outro lado, a morfologia das bordas dos terraços monoatômicos está associada à direção cristalográfica no plano [111] que emerge da superfície das lâminas. Quando esta é próxima à < -1 -1 2>, são obtidas superfícies H-Si(111) com degraus monoatômicos retilíneos em larga escala (>µm). A eletrodeposição potenciostática de Au mostrou-se ser seletiva em tais superfícies H-Si(111). Dependendo do potencial de deposição empregado, conforme observado com AFM, varia tanto a quantidade quanto a localização dos sítios de nucleação de Au nesta superfície. Numa determinada faixa de potencial, este sistema eletroquímico apresentou mecanismo anisotrópico de nucleação, onde Au deposita-se predominantemente sobre os degraus monoatômicos do substrato. Deste modo foi possível preparar nanoestruturas Au/Si(111) cujo padrão nanométrico de organização é regido pela topografia do substrato empregado. Nos ensaios de microscopia AFM também foi constatado uma quantidade significativa dos aglomerados de Au eletrodepositados que possuem formato achatado com contorno poliédrico bem definido cujo um dos lados está alinhado ao degrau da superfície H-Si(111). Este indício de crescimento ordenado Au(111) e em epitaxia com o substrato foi investigado a partir de ensaios de DRX de difração normal e plana respectivamente. Com estes experimentos foi verificado tanto que a quantidade de ouro depositada com textura Au(111), quanto o grau de epitaxia e alinhamento perpendicular do depósito com o substrato, aumentam gradativamente a medida que o potencial de deposição torna-se mais negativo. Foi proposto um modelo para descrever a dependência do mecanismo de nucleação e crescimento de Au sobre Si(111) com o potencial de deposição. Segundo este modelo, ocorre a segregação da camada de hidrogênio da superfície H-Si(111) para potenciais mais intensos (mais negativos) privilegiando a formação de ligações Au-Si. Para finalizar, tais estruturas Au/Si(111) foram empregadas como substrato para a eletrodeposição de camadas metálicas de cobalto. Os aglomerados de Au na superfície destas amostras serviram para ancorar a nucleação de Co. Deste modo, foi possível produzir nanoestruturas magnéticas com morfologia determinada, indiretamente, pela distribuição de degraus monoatômicos do substrato Si(111). Em tais amostras Co/Au/Si(111) verificou-se a presença de anisotropia magnética perpendicular e plana, sendo esta última induzida pela distribuição anisotrópica de aglomerado na superfície do substrato.218 f.| il., grafs.porFlorianópolis, SCFísicaEletrodeposicaoNanoestruturasSilicioEletrodeposição de nanoestruturas metálicas em silício nanocristalinoinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisreponame:Repositório Institucional da UFSCinstname:Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)instacron:UFSCinfo:eu-repo/semantics/openAccessORIGINAL222615.pdfapplication/pdf7240029https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/83575/1/222615.pdf25139e93805108a3a6ca32a61022d7baMD51TEXT222615.pdf.txt222615.pdf.txtExtracted Texttext/plain352358https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/83575/2/222615.pdf.txte3351691f148cbc1b8b8314b869d7001MD52THUMBNAIL222615.pdf.jpg222615.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1644https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/83575/3/222615.pdf.jpg516bbf67b2351020eb5cbb0ff451e4ebMD53123456789/835752013-05-02 15:35:06.463oai:repositorio.ufsc.br:123456789/83575Repositório InstitucionalPUBhttp://150.162.242.35/oai/requestsandra.sobrera@ufsc.bropendoar:23732013-05-02T18:35:06Repositório Institucional da UFSC - Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)false
dc.title.pt_BR.fl_str_mv Eletrodeposição de nanoestruturas metálicas em silício nanocristalino
title Eletrodeposição de nanoestruturas metálicas em silício nanocristalino
spellingShingle Eletrodeposição de nanoestruturas metálicas em silício nanocristalino
Munford, Maximiliano Luis
Física
Eletrodeposicao
Nanoestruturas
Silicio
title_short Eletrodeposição de nanoestruturas metálicas em silício nanocristalino
title_full Eletrodeposição de nanoestruturas metálicas em silício nanocristalino
title_fullStr Eletrodeposição de nanoestruturas metálicas em silício nanocristalino
title_full_unstemmed Eletrodeposição de nanoestruturas metálicas em silício nanocristalino
title_sort Eletrodeposição de nanoestruturas metálicas em silício nanocristalino
author Munford, Maximiliano Luis
author_facet Munford, Maximiliano Luis
author_role author
dc.contributor.pt_BR.fl_str_mv Universidade Federal de Santa Catarina
dc.contributor.author.fl_str_mv Munford, Maximiliano Luis
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv Pasa, Andre Avelino
dc.contributor.advisor-co1.fl_str_mv Allongue, Philippe
contributor_str_mv Pasa, Andre Avelino
Allongue, Philippe
dc.subject.classification.pt_BR.fl_str_mv Física
Eletrodeposicao
Nanoestruturas
Silicio
topic Física
Eletrodeposicao
Nanoestruturas
Silicio
description Tese (doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas. Programa de Pós-Graduação em Física.
publishDate 2002
dc.date.submitted.pt_BR.fl_str_mv 2002
dc.date.issued.fl_str_mv 2002
dc.date.accessioned.fl_str_mv 2012-10-20T01:17:03Z
dc.date.available.fl_str_mv 2012-10-20T01:17:03Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/doctoralThesis
format doctoralThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/83575
dc.identifier.other.pt_BR.fl_str_mv 222615
identifier_str_mv 222615
url http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/83575
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv 218 f.| il., grafs.
dc.publisher.none.fl_str_mv Florianópolis, SC
publisher.none.fl_str_mv Florianópolis, SC
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Institucional da UFSC
instname:Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)
instacron:UFSC
instname_str Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)
instacron_str UFSC
institution UFSC
reponame_str Repositório Institucional da UFSC
collection Repositório Institucional da UFSC
bitstream.url.fl_str_mv https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/83575/1/222615.pdf
https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/83575/2/222615.pdf.txt
https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/83575/3/222615.pdf.jpg
bitstream.checksum.fl_str_mv 25139e93805108a3a6ca32a61022d7ba
e3351691f148cbc1b8b8314b869d7001
516bbf67b2351020eb5cbb0ff451e4eb
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional da UFSC - Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)
repository.mail.fl_str_mv sandra.sobrera@ufsc.br
_version_ 1851759204354752512

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