Propriedades extrínsecas em filmes finos de VO2

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2010
Autor(a) principal: Callegari, Gustavo Luiz lattes
Orientador(a): Schelp, Luiz Fernando lattes
Banca de defesa: Vieira, Valdemar das Neves lattes, Vasconcellos, Marcos Antonio Zen lattes, Silva, Celso Arami Marques da lattes, Oliveira, Ana Augusta Mendonça de lattes
Tipo de documento: Tese
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Universidade Federal de Santa Maria
Programa de Pós-Graduação: Programa de Pós-Graduação em Física
Departamento: Física
País: BR
Palavras-chave em Português:
Dióxido de vanádio
Filmes finos
Transição metal-isolante
Magnetron sputtering
Palavras-chave em Inglês:
Vanadium dioxide
Thin films
Metal-insulator transition
Área do conhecimento CNPq:
CNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA
Link de acesso: http://repositorio.ufsm.br/handle/1/3917
Resumo: In earlier work done at the Laboratory of Magnetism and Magnetic Materials in Santa Maria, spectroscopy measurements of electrical impedance between 100 kHz and 1 GHz were a function of temperature in VO2 thin films along the metal insulator transition undergone by this material. These results suggested [127] that the Impedance Spectroscopy can be a useful tool to separate the contributions from those intrinsic material generated by morphological characteristics. For that such possibility could be actually realized, technological improvements were introduced in the system deposited by Magnetron Sputtering at Laboratory of Magnetism and Magnetic Materials as the addition of a Residual Gas Analyzer and improvements in the heating substrate holder. Spectroscopy measurements were performed in a wider range of frequencies and relaxation times extracted from them were compared with the structural characteristics of the samples obtained by X-ray diffraction and Atomic Force Spectroscopy.
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spelling 2017-05-082017-05-082010-08-31CALLEGARI, Gustavo Luiz. Extrinsic properties on thin films of VO2. 2010. 125 f. Tese (Doutorado em Física) - Universidade Federal de Santa Maria, Santa Maria, 2010.http://repositorio.ufsm.br/handle/1/3917In earlier work done at the Laboratory of Magnetism and Magnetic Materials in Santa Maria, spectroscopy measurements of electrical impedance between 100 kHz and 1 GHz were a function of temperature in VO2 thin films along the metal insulator transition undergone by this material. These results suggested [127] that the Impedance Spectroscopy can be a useful tool to separate the contributions from those intrinsic material generated by morphological characteristics. For that such possibility could be actually realized, technological improvements were introduced in the system deposited by Magnetron Sputtering at Laboratory of Magnetism and Magnetic Materials as the addition of a Residual Gas Analyzer and improvements in the heating substrate holder. Spectroscopy measurements were performed in a wider range of frequencies and relaxation times extracted from them were compared with the structural characteristics of the samples obtained by X-ray diffraction and Atomic Force Spectroscopy.Em trabalhos anteriores realizados no Laboratório de Magnetismo e Materiais Magnéticos em Santa Maria, medidas de espectroscopia de impedância elétrica entre 100 kHz e 1 GHz foram realizadas em função da temperatura em filmes finos de VO2, ao longo da transição metal isolante sofrida por este material. Estes resultados sugeriram [127] que a Espectroscopia de Impedância pode ser uma ferramenta útil para separar as contribuições intrínsecas do material daquelas geradas por características morfológicas. Para que tal possibilidade pudesse ser realmente efetivada, foram introduzidas melhorias técnicas no sistema de deposição por Magnetron Sputtering do Laboratório de Magnetismo e Materiais Magnéticos como a adição de um Analisador de Gás Residual e aperfeiçoamentos no sistema de aquecimento do porta substrato. Foram realizadas medidas de espectroscopia numa faixa mais ampla de freqüências e os tempos de relaxação delas extraídos. Essas medidas foram comparadas com as características estruturais das amostras obtidos por difração de Raios X e Espectroscopia de Força Atômica.Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superiorapplication/pdfporUniversidade Federal de Santa MariaPrograma de Pós-Graduação em FísicaUFSMBRFísicaDióxido de vanádioFilmes finosTransição metal-isolanteMagnetron sputteringVanadium dioxideThin filmsMetal-insulator transitionCNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICAPropriedades extrínsecas em filmes finos de VO2Extrinsic properties on thin films of VO2info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisSchelp, Luiz Fernandohttp://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4782843Y8Vieira, Valdemar das Neveshttp://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4763679H9Vasconcellos, Marcos Antonio Zenhttp://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4785875U9Silva, Celso Arami Marques dahttp://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4797802D1Oliveira, Ana Augusta Mendonça dehttp://lattes.cnpq.br/1723588689819867http://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4774446T0Callegari, Gustavo Luiz100500000006400300300300300300300bf7e2825-6ccb-40bd-9835-c0f169db2f62448a4c9f-ce7a-47d6-832b-bdc0eae2f469a21f99fc-28f4-47d2-b243-874bebb293af93882cd1-aa63-4be7-9bc8-c440c0271565d7226b02-56e4-4982-8c8d-1bcb92abbb6d32b3b690-fff8-483e-86c2-58040ad3add1info:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Manancial - Repositório Digital da UFSMinstname:Universidade Federal de Santa Maria (UFSM)instacron:UFSMORIGINALCALLEGARI, GUSTAVO LUIZ.pdfapplication/pdf13288546http://repositorio.ufsm.br/bitstream/1/3917/1/CALLEGARI%2c%20GUSTAVO%20LUIZ.pdfc1e7504121709f300e18756326e6e322MD51TEXTCALLEGARI, GUSTAVO LUIZ.pdf.txtCALLEGARI, GUSTAVO LUIZ.pdf.txtExtracted texttext/plain222650http://repositorio.ufsm.br/bitstream/1/3917/2/CALLEGARI%2c%20GUSTAVO%20LUIZ.pdf.txtc3a2fe26b390e1d1796898f4c701a106MD52THUMBNAILCALLEGARI, GUSTAVO LUIZ.pdf.jpgCALLEGARI, GUSTAVO LUIZ.pdf.jpgIM Thumbnailimage/jpeg5727http://repositorio.ufsm.br/bitstream/1/3917/3/CALLEGARI%2c%20GUSTAVO%20LUIZ.pdf.jpg8cad47ac0c90332e1a0c86ea0ac00175MD531/39172022-06-27 12:55:28.476oai:repositorio.ufsm.br:1/3917Repositório Institucionalhttp://repositorio.ufsm.br/PUBhttp://repositorio.ufsm.br/oai/requestopendoar:39132022-06-27T15:55:28Manancial - Repositório Digital da UFSM - Universidade Federal de Santa Maria (UFSM)false
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