Obtenção e caracterização de filmes finos de hexacianoferrato de níquel

• Ano de defesa: 2018
• Autor(a) principal: Assis, Victória de
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade Federal de Viçosa
• Palavras-chave em Português: Eletrodeposição; Eletroquímica; Filmes finos; Hexacianoferrato de níquel; Aspereza de superfície; Energia - Armazenamento; Física da Matéria Condensada
• Link de acesso: http://www.locus.ufv.br/handle/123456789/24234

O Hexacianoferrato de Níquel (NiHCF) é um composto pertencente a uma importante classe Hexacianometalatos. de Os metais de valência Hexacianometalatos mista têm denominados como percursor Hexacianoferrato de Ferro, popularmente conhecido como Azul da Prússia. O Azul da Prússia e seus análogos têm atraído atenção de diversos grupos de pesquisa devido as suas propriedades eletrocatalíticas, eletrocômicas, iônicosensiveis, magneto moleculares, fotosensitivas e eletroquímicas. Estas propriedades permitem que estes compostos sejam utilizados em diversas aplicações das quais podemos citar sensores eletroquímicos, sensores biológicos e baterias. Dos análogos do Azul da Prússia o NiHCF particularmente, se destaca por suas propriedades atrativas nas reações de Oxi-redução. Estas propriedades estão diretamente ligadas à sua estrutura cúbica de face centrada que permite a intercalação/desintercalação de íons de metais alcalinos nos espaços intersticiais, de modo que torna o NiHCF sensível aos mesmos, tendo facilidade para detecta-los, além de favorecer o processo de armazenamento de energia. Os filmes de NiHCF podem ser obtidos por diferentes métodos, como, por exemplo, deposição química, deposição eletroquímica e derivação. Este trabalho teve como objetivo a obtenção de filmes finos de NiHCF por meio do processo de derivação de uma camada de Níquel eletrodepositada sobre um substrato de Silicio através da técnica de Voltametria Cíclica usando diferentes números de ciclos. Através de caracterizações morfológicas e eletroquímicas, analisou-se a influência da rugosidade superficial em algumas propriedades do composto como armazenamento de energia. Para o cálculo da rugosidade superficial das amostras utilizou-se a Função de Correlação Altura-Altura (HHCF) aplicada as imagens obtidas via Microscopia de Força Atômica (AFM). Já as características morfológicas foram estudadas através de imagens obtidas por Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV), e a estrutura cristalina do composto foi investigada por meio de Espectroscopia Raman e Difração de Raios-X. Medidas de magnetização foram realizadas com intuito de verificar se há uma correlação entre a formação dos filmes de NiHCF com as suas propriedades magnéticas. A técnica eletroquímica de carga e descarga sugere a existência de relação direta da rugosidade com o armazenamento de energia das amostras. Este estudo se torna útil para a otimização de parâmetros possibilitando a obtenção de filmes de NiHCF funcionais de forma controlada que sejam apropriados para aplicações diversas.