Obtenção e caracterização de filmes finos de oxido, nitreto e oxinitreto de silicio por deposição ECR-CVD

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2005
Autor(a) principal: Biasotto, Cleber
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: [s.n.]
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Deposição química de vapor
Filmes finos
Nitreto de silício
Silício
Dispositivos eletromecânicos
CVD (Chemical vapor deposition)
Thin films
Silicon nitride
Silicon oxynitride
Silicon oxide
MEMS
Eletromechanical devices
Link de acesso: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1601806
Resumo: Orientador: Jose Alexandre Diniz
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