Obtenção e caracterização de filmes finos e ultra-finos de oxido e oxinitreto de silicio em sistema "home-made" de plasma remoto

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 1999
Autor(a) principal: Sotero, Anna Paula da Silva
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Tese
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: [s.n.]
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Plasma (Gases ionizados)
Deposição química de vapor
Filmes finos
Oxidação
Micro-ondas
Link de acesso: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1588491
Resumo: Orientadores: Peter Jurgen Tatsch, Jose Alexandre Diniz
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