Deposição de hidreto de silício sobre a zircônia em diferentes tempos: análise química, microestrutural e durabilidade da união ao cimento resinoso

• Ano de defesa: 2018
• Autor(a) principal: Monteiro, Jaiane Bandoli [UNESP]
• Orientador(a): Marinho, Renata Marques de Melo [UNESP]
• Tipo de documento: Tese
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade Estadual Paulista (Unesp)
• Palavras-chave em Português: Materiais dentários; Zircônia; Silício; Envelhecimento; Resistência ao cisalhamento
• Palavras-chave em Inglês: Dental ceramics; Zirconia. Silicon; Aging; Shear strength
• Link de acesso: http://hdl.handle.net/11449/180555

O objetivo deste estudo foi avaliar a Deposição Química na Fase Vapor Assistido por Plasma (PECVD) com hidreto de silício (SiH4) em zircônia VITA YZ HT em diferentes tempos, bem como os seus efeitos nas características superficiais do material e na união ao cimento resinoso antes e após a termociclagem. Blocos de zircônia Vita YZ HT foram obtidos, polidos, sinterizados e divididos em 5 grupos, de acordo com o tempo de PECVD (n = 31): Zr-30 (30s), Zr-60 (60s), Zr-120 (120s) e Zr-300 (300s). O grupo controle (Zr-0) não recebeu deposição. Análises de DRX, FTIR, EDS, FE-SEM, XPS, goniometria e perfilometria foram utilizadas para caracterização química e topográfica. O silano Monobond N foi aplicado na superfície e um cilindro de cimento resinoso (Variolink N) foi confeccionado (3 × 3 mm). Metade dos espécimes de cada grupo foi armazenada por 24 h ou submetida à termociclagem (6 × 10³ ciclos). Teste de resistência ao cisalhamento (SBS) foi realizado. Os resultados foram submetidos aos testes one-way Anova e Tukey (α = 0,05). Para os grupos experimentais, o XPS mostrou que a formação de ligações Si-O contribuiu para o aumento da Energia Livre de Superfície (ELS). MEV-FEG e EDS mostraram que quanto maior o tempo de deposição, maior a quantidade de silício na superfície, apresentando apenas fase tetragonal. Zr-60 e Zr-300 apresentaram maior e menor rugosidade superficial, respectivamente. O silício penetrou na microestrutura, causando maior concentração de tensão. A resistência de união ao cimento resinoso foi melhorada após todos os tempos de deposição da PECVD. Portanto, a técnica de PECVD com o composto químico SiH4 associada ao tratamento químico com primer universal baseado em metacrilato de silano é uma alternativa promissora para a manutenção da ligação entre cimento resinoso e zircônia HT.