Deposição de hidreto de silício sobre a zircônia em diferentes tempos: análise química, microestrutural e durabilidade da união ao cimento resinoso

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2018
Autor(a) principal: Monteiro, Jaiane Bandoli [UNESP]
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Tese
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Universidade Estadual Paulista (Unesp)
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Materiais dentários
Zircônia
Silício
Envelhecimento
Resistência ao cisalhamento
Dental ceramics
Zirconia. Silicon
Aging
Shear strength
Link de acesso: http://hdl.handle.net/11449/180555
Resumo: O objetivo deste estudo foi avaliar a Deposição Química na Fase Vapor Assistido por Plasma (PECVD) com hidreto de silício (SiH4) em zircônia VITA YZ HT em diferentes tempos, bem como os seus efeitos nas características superficiais do material e na união ao cimento resinoso antes e após a termociclagem. Blocos de zircônia Vita YZ HT foram obtidos, polidos, sinterizados e divididos em 5 grupos, de acordo com o tempo de PECVD (n = 31): Zr-30 (30s), Zr-60 (60s), Zr-120 (120s) e Zr-300 (300s). O grupo controle (Zr-0) não recebeu deposição. Análises de DRX, FTIR, EDS, FE-SEM, XPS, goniometria e perfilometria foram utilizadas para caracterização química e topográfica. O silano Monobond N foi aplicado na superfície e um cilindro de cimento resinoso (Variolink N) foi confeccionado (3 × 3 mm). Metade dos espécimes de cada grupo foi armazenada por 24 h ou submetida à termociclagem (6 × 10³ ciclos). Teste de resistência ao cisalhamento (SBS) foi realizado. Os resultados foram submetidos aos testes one-way Anova e Tukey (α = 0,05). Para os grupos experimentais, o XPS mostrou que a formação de ligações Si-O contribuiu para o aumento da Energia Livre de Superfície (ELS). MEV-FEG e EDS mostraram que quanto maior o tempo de deposição, maior a quantidade de silício na superfície, apresentando apenas fase tetragonal. Zr-60 e Zr-300 apresentaram maior e menor rugosidade superficial, respectivamente. O silício penetrou na microestrutura, causando maior concentração de tensão. A resistência de união ao cimento resinoso foi melhorada após todos os tempos de deposição da PECVD. Portanto, a técnica de PECVD com o composto químico SiH4 associada ao tratamento químico com primer universal baseado em metacrilato de silano é uma alternativa promissora para a manutenção da ligação entre cimento resinoso e zircônia HT.
id UNSP_3de0747fa2ab196d1dbc75ce5b5011ad
oai_identifier_str oai:repositorio.unesp.br:11449/180555
network_acronym_str UNSP
network_name_str Repositório Institucional da UNESP
repository_id_str
spelling Deposição de hidreto de silício sobre a zircônia em diferentes tempos: análise química, microestrutural e durabilidade da união ao cimento resinosoDeposition of silicon hydride on the zirconia in different times: chemical, microstructural analyses and bond strenght with resin cementMateriais dentáriosZircôniaSilícioEnvelhecimentoResistência ao cisalhamentoDental ceramicsZirconia. SiliconAgingShear strengthO objetivo deste estudo foi avaliar a Deposição Química na Fase Vapor Assistido por Plasma (PECVD) com hidreto de silício (SiH4) em zircônia VITA YZ HT em diferentes tempos, bem como os seus efeitos nas características superficiais do material e na união ao cimento resinoso antes e após a termociclagem. Blocos de zircônia Vita YZ HT foram obtidos, polidos, sinterizados e divididos em 5 grupos, de acordo com o tempo de PECVD (n = 31): Zr-30 (30s), Zr-60 (60s), Zr-120 (120s) e Zr-300 (300s). O grupo controle (Zr-0) não recebeu deposição. Análises de DRX, FTIR, EDS, FE-SEM, XPS, goniometria e perfilometria foram utilizadas para caracterização química e topográfica. O silano Monobond N foi aplicado na superfície e um cilindro de cimento resinoso (Variolink N) foi confeccionado (3 × 3 mm). Metade dos espécimes de cada grupo foi armazenada por 24 h ou submetida à termociclagem (6 × 10³ ciclos). Teste de resistência ao cisalhamento (SBS) foi realizado. Os resultados foram submetidos aos testes one-way Anova e Tukey (α = 0,05). Para os grupos experimentais, o XPS mostrou que a formação de ligações Si-O contribuiu para o aumento da Energia Livre de Superfície (ELS). MEV-FEG e EDS mostraram que quanto maior o tempo de deposição, maior a quantidade de silício na superfície, apresentando apenas fase tetragonal. Zr-60 e Zr-300 apresentaram maior e menor rugosidade superficial, respectivamente. O silício penetrou na microestrutura, causando maior concentração de tensão. A resistência de união ao cimento resinoso foi melhorada após todos os tempos de deposição da PECVD. Portanto, a técnica de PECVD com o composto químico SiH4 associada ao tratamento químico com primer universal baseado em metacrilato de silano é uma alternativa promissora para a manutenção da ligação entre cimento resinoso e zircônia HT.The aim of this study was to evaluate the effect of Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) with silicon hydride (SiH4) on VITA YZ HT zirconia at different times, as well as its effects on material surface characteristics and bonding to resin cement before and after thermocycling. Blocks of VITA YZ HT zirconia were obtained, polished, sintered, and divided into five groups, according to PECVD time (n = 31): Zr-30 (30 s), Zr-60 (60 s), Zr-120 (120 s), and Zr-300 (300 s). The control group (Zr-0) did not receive deposition. XRD, FTIR, EDS, FE-SEM, XPS, goniometry, and profilometry analyses were used for chemical and topographic characterization. Monobond N silane was applied to the surface, and a cylinder of resin cement (Variolink N) was made (3 × 3 mm). Half of the specimens of each group were stored for 24 h or subjected to thermocycling (6 × 10³ cycles). A shear bond strength (SBS) test was performed. Results were subjected to one-way ANOVA and Tukey's tests (α = 0.05). For experimental groups, XPS showed that formation of Si-O bonds contributed to increased Surface Free Energy (SFE). FE-SEM and EDS showed that the longer the deposition time, the greater the amount of silicon on the surface, presenting only a tetragonal phase. Zr-60 and Zr-300 presented higher and lower surface roughnesses, respectively. The silicon penetrated the microstructure, causing higher stress concentrations. The bond strength to resin cement was improved after all PECVD deposition times. Thus, the PECVD technique with the chemical compound SiH4, associated with chemical treatment with universal primer based on silane methacrylate, is a promising alternative for maintaining bonding between resin cement and HT zirconia.Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)Universidade Estadual Paulista (Unesp)Marinho, Renata Marques de Melo [UNESP]Universidade Estadual Paulista (Unesp)Monteiro, Jaiane Bandoli [UNESP]2019-01-24T19:24:58Z2019-01-24T19:24:58Z2018-12-10info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisapplication/pdfhttp://hdl.handle.net/11449/18055500091197233004145070P832900275727319810000-0003-0752-6294porinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UNESPinstname:Universidade Estadual Paulista (UNESP)instacron:UNESP2024-11-19T15:00:58Zoai:repositorio.unesp.br:11449/180555Repositório InstitucionalPUBhttp://repositorio.unesp.br/oai/requestrepositoriounesp@unesp.bropendoar:29462024-11-19T15:00:58Repositório Institucional da UNESP - Universidade Estadual Paulista (UNESP)false
dc.title.none.fl_str_mv Deposição de hidreto de silício sobre a zircônia em diferentes tempos: análise química, microestrutural e durabilidade da união ao cimento resinoso
Deposition of silicon hydride on the zirconia in different times: chemical, microstructural analyses and bond strenght with resin cement
title Deposição de hidreto de silício sobre a zircônia em diferentes tempos: análise química, microestrutural e durabilidade da união ao cimento resinoso
spellingShingle Deposição de hidreto de silício sobre a zircônia em diferentes tempos: análise química, microestrutural e durabilidade da união ao cimento resinoso
Monteiro, Jaiane Bandoli [UNESP]
Materiais dentários
Zircônia
Silício
Envelhecimento
Resistência ao cisalhamento
Dental ceramics
Zirconia. Silicon
Aging
Shear strength
title_short Deposição de hidreto de silício sobre a zircônia em diferentes tempos: análise química, microestrutural e durabilidade da união ao cimento resinoso
title_full Deposição de hidreto de silício sobre a zircônia em diferentes tempos: análise química, microestrutural e durabilidade da união ao cimento resinoso
title_fullStr Deposição de hidreto de silício sobre a zircônia em diferentes tempos: análise química, microestrutural e durabilidade da união ao cimento resinoso
title_full_unstemmed Deposição de hidreto de silício sobre a zircônia em diferentes tempos: análise química, microestrutural e durabilidade da união ao cimento resinoso
title_sort Deposição de hidreto de silício sobre a zircônia em diferentes tempos: análise química, microestrutural e durabilidade da união ao cimento resinoso
author Monteiro, Jaiane Bandoli [UNESP]
author_facet Monteiro, Jaiane Bandoli [UNESP]
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Marinho, Renata Marques de Melo [UNESP]
Universidade Estadual Paulista (Unesp)
dc.contributor.author.fl_str_mv Monteiro, Jaiane Bandoli [UNESP]
dc.subject.por.fl_str_mv Materiais dentários
Zircônia
Silício
Envelhecimento
Resistência ao cisalhamento
Dental ceramics
Zirconia. Silicon
Aging
Shear strength
topic Materiais dentários
Zircônia
Silício
Envelhecimento
Resistência ao cisalhamento
Dental ceramics
Zirconia. Silicon
Aging
Shear strength
description O objetivo deste estudo foi avaliar a Deposição Química na Fase Vapor Assistido por Plasma (PECVD) com hidreto de silício (SiH4) em zircônia VITA YZ HT em diferentes tempos, bem como os seus efeitos nas características superficiais do material e na união ao cimento resinoso antes e após a termociclagem. Blocos de zircônia Vita YZ HT foram obtidos, polidos, sinterizados e divididos em 5 grupos, de acordo com o tempo de PECVD (n = 31): Zr-30 (30s), Zr-60 (60s), Zr-120 (120s) e Zr-300 (300s). O grupo controle (Zr-0) não recebeu deposição. Análises de DRX, FTIR, EDS, FE-SEM, XPS, goniometria e perfilometria foram utilizadas para caracterização química e topográfica. O silano Monobond N foi aplicado na superfície e um cilindro de cimento resinoso (Variolink N) foi confeccionado (3 × 3 mm). Metade dos espécimes de cada grupo foi armazenada por 24 h ou submetida à termociclagem (6 × 10³ ciclos). Teste de resistência ao cisalhamento (SBS) foi realizado. Os resultados foram submetidos aos testes one-way Anova e Tukey (α = 0,05). Para os grupos experimentais, o XPS mostrou que a formação de ligações Si-O contribuiu para o aumento da Energia Livre de Superfície (ELS). MEV-FEG e EDS mostraram que quanto maior o tempo de deposição, maior a quantidade de silício na superfície, apresentando apenas fase tetragonal. Zr-60 e Zr-300 apresentaram maior e menor rugosidade superficial, respectivamente. O silício penetrou na microestrutura, causando maior concentração de tensão. A resistência de união ao cimento resinoso foi melhorada após todos os tempos de deposição da PECVD. Portanto, a técnica de PECVD com o composto químico SiH4 associada ao tratamento químico com primer universal baseado em metacrilato de silano é uma alternativa promissora para a manutenção da ligação entre cimento resinoso e zircônia HT.
publishDate 2018
dc.date.none.fl_str_mv 2018-12-10
2019-01-24T19:24:58Z
2019-01-24T19:24:58Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/doctoralThesis
format doctoralThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://hdl.handle.net/11449/180555
000911972
33004145070P8
3290027572731981
0000-0003-0752-6294
url http://hdl.handle.net/11449/180555
identifier_str_mv 000911972
33004145070P8
3290027572731981
0000-0003-0752-6294
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv Universidade Estadual Paulista (Unesp)
publisher.none.fl_str_mv Universidade Estadual Paulista (Unesp)
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Institucional da UNESP
instname:Universidade Estadual Paulista (UNESP)
instacron:UNESP
instname_str Universidade Estadual Paulista (UNESP)
instacron_str UNESP
institution UNESP
reponame_str Repositório Institucional da UNESP
collection Repositório Institucional da UNESP
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional da UNESP - Universidade Estadual Paulista (UNESP)
repository.mail.fl_str_mv repositoriounesp@unesp.br
_version_ 1854954908576382976

Registros relacionados