Avaliação retrospectiva de implantes com conexões protéticas do tipo cone morse e hexágono externo instalados em seios maxilares previamente enxertados e em osso nativo

• Ano de defesa: 2020
• Autor(a) principal: Barros Filho, Luiz Antônio Borelli [UNESP]
• Orientador(a): Marcantonio Junior, Elcio
• Tipo de documento: Tese
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade Estadual Paulista (Unesp)
• Palavras-chave em Português: Osseointegração; Transplante ósseo; Seio maxilar
• Palavras-chave em Inglês: Osseointegration; Bone transplant; Maxillary sinus
• Link de acesso: http://hdl.handle.net/11449/192378

O objetivo desse estudo foi de avaliar retrospectivamente a taxa de sobrevivência de implantes com diferentes tipos de conexão protética instalados na região posterior de maxila, em osso nativo ou em seios previamente enxertados com diferentes biomateriais. Foram avaliados 310 implantes que foram instalados em 103 pacientes sendo que 87 implantes foram instalados associados a seios maxilares enxertados (56 cone morse - CM e 31 hexágonos externos-HE) em 37 pacientes e 223 implantes foram instalados em áreas de osso nativo (112 CM e 111 HE) em 76 pacientes. Foram realizadas análises clínicas peri-implantares: 1)Sangramento à sondagem; 2)Profundidade de sondagem; 3)Nível da margem periimplantar; 4)Presença de mobilidade ou supuração e análise do nível ósseo radiográfico. Dois implantes foram perdidos, um CM em osso nativo e um HE em seio enxertado, o que forneceu uma taxa de sobrevivência de 99.35 %. Foi verificado que os implantes do tipo CM apresentaram menores profundidades de sondagem e maior nível ósseo periimplantar em comparação aos implantes HE tanto em área enxertada como em área de osso nativo (p<0.05). Não houve diferenças estatisticamente significativas entre os implantes instalados em áreas de osso nativo e enxertado em nenhum parâmetro avaliado. Implantes HE instalados em áreas de osso nativo apresentaram maiores taxas de peri-implantite. Pode-se concluir que implantes de plataforma do tipo CM reduzem a perda óssea periimplantar, porém a instalação de implantes em seios maxilares previamente enxertados com biomateriais osteocondutores não predispõe maiores níveis ósseos periimplantares.