Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada.

• Ano de defesa: 2001
• Autor(a) principal: Moraes Junior, Hamilton Fernandes de
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
• Palavras-chave em Português: Electronic optics; Óptica eletrônica
• Link de acesso: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25092024-134008/

Neste trabalho estudamos a etapa de litografia por feixe de elétrons aplicada a fabricação de microelementos ópticos de relevo contínuo. Estudamos também a preparação do polímero e a influência de parâmetros como tempo de revelação, etapa de aquecimento de pós exposição (PEB), valor da energia do feixe de elétrons utilizado na exposição e tipo de solvente utilizado, nos valores de contraste e sensibilidade. Foi utilizado também um software dedicado a etapa de litografia por feixe de elétrons para a simulação dos perfis dos microelementos ópticos de relevo contínuo a serem fabricados. Os filmes obtidos com o polímero utilizado para a fabricação das microlentes, PMMA Elvacite 2041, tiveram uma precisão na espessura de 7% e rugosidade abaixo de 10 nm. Os parâmetros ideais encontrados para processamento, que proporcionam um melhor valor de sensibilidade e contraste, foram 30 keV para energia do feixe seguido de uma etapa de aquecimento pós exposição de 300 seg a \'130 GRAUS\'C e 120 seg de tempo de revelação em MIBK puro. As simulações estimaram corretamente a ordem dos parâmetros a serem utilizados, tornando mais rápido a obtenção das microlentes. Concluímos também que a determinação do arquivo característico do processo, a partir do qual o simulador obtém os perfis, deve ser construído empregando-se estruturas com largura de 1\'micron\' espaçadas de 30\'micra\', e não de 30\'micra\' espaçadas de 30\'micra\' como descrito no manual do fabricante.