Caracterização de plasmas com a técnica de sonda eletrostática.
| Ano de defesa: | 1998 |
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| Tipo de documento: | Dissertação |
| Tipo de acesso: | Acesso aberto |
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| Instituição de defesa: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
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| Programa de Pós-Graduação: |
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| País: |
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| Palavras-chave em Português: | |
| Link de acesso: | https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-14102024-110323/ |
Resumo: | Neste tabalho foi realizado um estudo da técnica de sondas eletrostáticas para caracterização de plasmas utilizados em processos de microeletrônica, particularmente na corrosão seca por plasma. Esta técnica permite determinar parâmetros elétricos de plasma como densidade de plasma, energia média de elétron, potencial flutuante e potencial de plasma. Foi realizado um estudo comparativo de vários tipos de sondas entre elas, uma sonda simples com choque de RF, uma sonda simples com choque de RF e com eletrodo de compensação e uma sonda dupla. Primeiramente foi verificada a influência dos choques de RF com uma nova técnica, medindo-se com um osciloscópio a componente AC do potencial gerado pelo plasma, através do choque. Depois foram caracterizados plasmas de argônio com três tipos diferentes de sondas. Os resultados obtidos mostram que a sonda dupla permite obter a densidade de plasma e a energia média de elétron com maior precisão; a sonda com choque de RF e com eletrodo de compensação apresenta resultados mais confiáveis de potencial e plasma e potencial flutuante, em relação à sonda construída somente com o choque de RF. Foi feita caracterização de plasmas com gases utilizados nos processos de microeletrônica: argônio, oxigênio e hexafluoreto de enxofre. |
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Caracterização de plasmas com a técnica de sonda eletrostática.Untitled in englishCorrosão por plasmaLangmuir ProbeMicroelectronics processesPlasma corrosionProcessos de microeletrônicaSonda de LangmuirNeste tabalho foi realizado um estudo da técnica de sondas eletrostáticas para caracterização de plasmas utilizados em processos de microeletrônica, particularmente na corrosão seca por plasma. Esta técnica permite determinar parâmetros elétricos de plasma como densidade de plasma, energia média de elétron, potencial flutuante e potencial de plasma. Foi realizado um estudo comparativo de vários tipos de sondas entre elas, uma sonda simples com choque de RF, uma sonda simples com choque de RF e com eletrodo de compensação e uma sonda dupla. Primeiramente foi verificada a influência dos choques de RF com uma nova técnica, medindo-se com um osciloscópio a componente AC do potencial gerado pelo plasma, através do choque. Depois foram caracterizados plasmas de argônio com três tipos diferentes de sondas. Os resultados obtidos mostram que a sonda dupla permite obter a densidade de plasma e a energia média de elétron com maior precisão; a sonda com choque de RF e com eletrodo de compensação apresenta resultados mais confiáveis de potencial e plasma e potencial flutuante, em relação à sonda construída somente com o choque de RF. Foi feita caracterização de plasmas com gases utilizados nos processos de microeletrônica: argônio, oxigênio e hexafluoreto de enxofre.In this work we studied the characteristics of and the characterization by electrostatic probes. The plasma density, electron temperature, floating and plasma potentials for several cold plasmas were determined. Several probes were characterized: single probe with RF choke, single probe with RF choke and compensating electrode and double probe. The efficiency of the RF choke was characterized by coupling the probe to an oscilloscope and analyzing the AC-spectrum. This proved to be a simple and fast technique to verify the capability of the RF choke to reduce the RF field over the dark sheath of the probe. Argon plasmas were then characterized by three probes. The double probe proved to be the most precise. This probe and the single probe with RF choke and compensating electrode yielded compatible results for both electron temperature and plasma density. The single probe with RF choke and without compensating electrode overestimates the electron temperature and underestimates the plasma density. It is also the least reliable probe to determine the floating and plasma potentials. Finally, argon, oxygen and SF6 plasmas were characterized.Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USPVerdonck, Patrick BernardCirino, Giuseppe Antonio1998-05-29info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttps://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-14102024-110323/reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USPinstname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USPLiberar o conteúdo para acesso público.info:eu-repo/semantics/openAccesspor2024-10-14T14:08:02Zoai:teses.usp.br:tde-14102024-110323Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.teses.usp.br/PUBhttp://www.teses.usp.br/cgi-bin/mtd2br.plvirginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.bropendoar:27212024-10-14T14:08:02Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)false |
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Neste tabalho foi realizado um estudo da técnica de sondas eletrostáticas para caracterização de plasmas utilizados em processos de microeletrônica, particularmente na corrosão seca por plasma. Esta técnica permite determinar parâmetros elétricos de plasma como densidade de plasma, energia média de elétron, potencial flutuante e potencial de plasma. Foi realizado um estudo comparativo de vários tipos de sondas entre elas, uma sonda simples com choque de RF, uma sonda simples com choque de RF e com eletrodo de compensação e uma sonda dupla. Primeiramente foi verificada a influência dos choques de RF com uma nova técnica, medindo-se com um osciloscópio a componente AC do potencial gerado pelo plasma, através do choque. Depois foram caracterizados plasmas de argônio com três tipos diferentes de sondas. Os resultados obtidos mostram que a sonda dupla permite obter a densidade de plasma e a energia média de elétron com maior precisão; a sonda com choque de RF e com eletrodo de compensação apresenta resultados mais confiáveis de potencial e plasma e potencial flutuante, em relação à sonda construída somente com o choque de RF. Foi feita caracterização de plasmas com gases utilizados nos processos de microeletrônica: argônio, oxigênio e hexafluoreto de enxofre. |
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