Estudos da eletrocristalização de selenetos de cobre sobre ultramicroeletrodos de platina
| Ano de defesa: | 2001 |
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| Tipo de documento: | Tese |
| Tipo de acesso: | Acesso aberto |
| Idioma: | por |
| Instituição de defesa: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
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| Programa de Pós-Graduação: |
Não Informado pela instituição
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| Departamento: |
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| País: |
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| Palavras-chave em Português: | |
| Link de acesso: | https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/75/75131/tde-03022026-173238/ |
Resumo: | O presente trabalho consiste no estudo sistemático da eletrocristalização de selenetos de cobre, com diferentes proporções dos constituintes (Cu:Se 1:2, 1:1 e 2:1) sobre ultramicroeletrodos (UME) de Pt. Os estudos dos selenetos foram precedidos pela investigação individual do comportamento eletroquímico de cada um dos seus precursores (cobre e selênio). Os resultados mostraram que o processo de nucleação e crescimento para o cobre segue o mecanismo de nucleação instantânea com crescimento tridimensional controlado por difusão. Para o selênio, a deposição ocorre através de um processo de nucleação bidimensional em baixos sobrepotenciais. No entanto, em potenciais muito negativos, foi possível detectar e estudar a nucleação instantânea e o crescimento de H2Se sobre a superfície do eletrodo. Para as diferentes soluções contendo cobre e selênio, uma resposta ciclovoltamétrica muito complexa foi registrada e interpretada com base em várias reações que podem ocorrer durante a varredura de potencial. Os experimentos de salto de potencial geram depósitos de Cu/Se com diferentes composições e que só podem ser considerados como deposição regular para a solução 1:1. A análise dos transientes cronoamperométricos revelou que o processo de nucleação é progressivo para as três composições estudadas. Isso foi confirmado pela análise dos transientes utilizando AFM. Os valores da taxa de formação de núcleos (AN0) foram da ordem de 105 cm-2.s-1 em baixos sobrepotenciais, indicando que o processo de nucleação, embora progressivo, é extremamente rápido nessas condições. Estudos de eletrodeposição de selenetos de cobre foram realizados em eletrodos convencionais usando as mesmas soluções e tempos de deposição da ordem de minutos. Em todos os casos, a composição da superfície revelou uma razão molar de 1:1 entre Cu e Se, medida por EDX. |
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Estudos da eletrocristalização de selenetos de cobre sobre ultramicroeletrodos de platinaStudies of the electrocrystallization of copper selenides on platinum ultramicroelectrodescopper selenideselectrocrystallizationeletrocristalizaçãoplatinaplatinumselenetos de cobreultramicroelectrodesultramicroeletrodosO presente trabalho consiste no estudo sistemático da eletrocristalização de selenetos de cobre, com diferentes proporções dos constituintes (Cu:Se 1:2, 1:1 e 2:1) sobre ultramicroeletrodos (UME) de Pt. Os estudos dos selenetos foram precedidos pela investigação individual do comportamento eletroquímico de cada um dos seus precursores (cobre e selênio). Os resultados mostraram que o processo de nucleação e crescimento para o cobre segue o mecanismo de nucleação instantânea com crescimento tridimensional controlado por difusão. Para o selênio, a deposição ocorre através de um processo de nucleação bidimensional em baixos sobrepotenciais. No entanto, em potenciais muito negativos, foi possível detectar e estudar a nucleação instantânea e o crescimento de H2Se sobre a superfície do eletrodo. Para as diferentes soluções contendo cobre e selênio, uma resposta ciclovoltamétrica muito complexa foi registrada e interpretada com base em várias reações que podem ocorrer durante a varredura de potencial. Os experimentos de salto de potencial geram depósitos de Cu/Se com diferentes composições e que só podem ser considerados como deposição regular para a solução 1:1. A análise dos transientes cronoamperométricos revelou que o processo de nucleação é progressivo para as três composições estudadas. Isso foi confirmado pela análise dos transientes utilizando AFM. Os valores da taxa de formação de núcleos (AN0) foram da ordem de 105 cm-2.s-1 em baixos sobrepotenciais, indicando que o processo de nucleação, embora progressivo, é extremamente rápido nessas condições. Estudos de eletrodeposição de selenetos de cobre foram realizados em eletrodos convencionais usando as mesmas soluções e tempos de deposição da ordem de minutos. Em todos os casos, a composição da superfície revelou uma razão molar de 1:1 entre Cu e Se, medida por EDX.The present work consists of a systematic study of the electrocrystallization of copper selenides, with different constituent proportions (Cu:Se 1:2, 1:1, and 2:1) on Pt ultramicroelectrodes (UME). The studies of the selenides were preceded by the individual investigation of the electrochemical behavior of each of their precursors (copper and selenium). The results showed that the nucleation and growth process for copper follows the instantaneous nucleation mechanism with diffusion-controlled three-dimensional growth. For selenium, deposition occurs through a two-dimensional nucleation process at low overpotentials. However, at very negative potentials, it was possible to detect and study the instantaneous nucleation and growth of H2Se on the electrode surface. For the different solutions containing copper and selenium, a very complex cyclic voltammetric response was recorded and interpreted based on several reactions that might occur during the potential scan. The potential step experiments generate Cu/Se deposits with different compositions and that only can be considered as regular deposition for the 1:1 solution. Analysis of the chronoamperometric transients revealed that the nucleation process is progressive for the three studied compositions. This was confirmed by analysis of the transients using AFM. The values of the rate of nuclei formation (AN0) were of the order of 105 cm-2.s-1 at low overpotentials, indicating that the nucleation process, although progressive, is extremely fast under those conditions. Electrodeposition studies of copper selenides were carried out on conventional electrodes using the same solutions as before and deposition times of the order of minutes. In all cases, the surface composition revealed a 1:1 molar ratio between Cu and Se, as measured by EDX.Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USPAvaca, Luis AlbertoBarin, Cláudia Smaniotto2001-03-26info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisapplication/pdfhttps://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/75/75131/tde-03022026-173238/reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USPinstname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USPLiberar o conteúdo para acesso público.info:eu-repo/semantics/openAccesspor2026-02-09T19:26:02Zoai:teses.usp.br:tde-03022026-173238Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.teses.usp.br/PUBhttp://www.teses.usp.br/cgi-bin/mtd2br.plvirginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.bropendoar:27212026-02-09T19:26:02Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)false |
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