Modelagem, formação e caracterização de filmes finos de óxido de gálio (Ga2O3)
| Ano de defesa: | 2025 |
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| Orientador(a): | |
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| Tipo de documento: | Dissertação |
| Tipo de acesso: | Acesso aberto |
| Idioma: | por |
| Instituição de defesa: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
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| Programa de Pós-Graduação: |
Não Informado pela instituição
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| Departamento: |
Não Informado pela instituição
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| Palavras-chave em Português: | |
| Link de acesso: | https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-10112025-141342/ |
Resumo: | Este estudo foca na síntese e caracterização de filmes finos de óxido de gálio, crescidos via Deposição Assistida por Feixe de Íons (IBAD). Os filmes foram analisados usando Difração de Raios X (XRD), Espectrometria de Retroespalhamento de Rutherford (RBS), Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV) e espectroscopia de reflectância UV-VIS-NIR. O XRD confirmou as fases cristalinas presentes em cada amostra, enquanto o RBS forneceu a espessura aproximada dos filmes, assim como a confirmação estequiométrica (composição do filme durante a deposição). O MEV caracterizou a morfologia da superfície, mostrando uma superfície de baixíssima rugosidade, com um tamanho médio de grão de 71(11) nm. As medições de reflectância óptica foram utilizadas para encontrar os valores de bandgap de cada amostra pelo método de Tauc, suportado pela transformação de Kubelka-Munk. Complementarmente, o arquivo CIF do material foi empregado para simulações de primeiros princípios no WIEN2k, gerando diagramas de estrutura de bandas eletrônicas e Densidade de Estados (DOS). Os resultados teóricos identificaram uma largura de banda indireta no ponto L, consistente com os achados experimentais. Os valores da largura de banda são 4,58 eV no ponto e 4,51 eV no ponto L. Notavelmente, os valores experimentais e simulados da largura de banda exibiram uma concordância próxima, validando a metodologia. A caracterização bem-sucedida dos filmes finos de Ga2O3, incluindo a identificação das fases cristalinas nas amostras e sua correlação entre dados experimentais e teóricos, demonstra a eficácia da combinação de técnicas avançadas de deposição, caracterização multimodal e modelagem computacional para estudos aprofundados de materiais existentes, assim como a investigação de novos materiais. |
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Modelagem, formação e caracterização de filmes finos de óxido de gálio (Ga2O3)Modeling, growth, and characterization of gallium oxide (Ga2O3) thin filmsBandgapDensidade de estadosDensity of statesDFTDFTFilmes finosGa2O3Ga2O3Largura de bandaThin filmsEste estudo foca na síntese e caracterização de filmes finos de óxido de gálio, crescidos via Deposição Assistida por Feixe de Íons (IBAD). Os filmes foram analisados usando Difração de Raios X (XRD), Espectrometria de Retroespalhamento de Rutherford (RBS), Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV) e espectroscopia de reflectância UV-VIS-NIR. O XRD confirmou as fases cristalinas presentes em cada amostra, enquanto o RBS forneceu a espessura aproximada dos filmes, assim como a confirmação estequiométrica (composição do filme durante a deposição). O MEV caracterizou a morfologia da superfície, mostrando uma superfície de baixíssima rugosidade, com um tamanho médio de grão de 71(11) nm. As medições de reflectância óptica foram utilizadas para encontrar os valores de bandgap de cada amostra pelo método de Tauc, suportado pela transformação de Kubelka-Munk. Complementarmente, o arquivo CIF do material foi empregado para simulações de primeiros princípios no WIEN2k, gerando diagramas de estrutura de bandas eletrônicas e Densidade de Estados (DOS). Os resultados teóricos identificaram uma largura de banda indireta no ponto L, consistente com os achados experimentais. Os valores da largura de banda são 4,58 eV no ponto e 4,51 eV no ponto L. Notavelmente, os valores experimentais e simulados da largura de banda exibiram uma concordância próxima, validando a metodologia. A caracterização bem-sucedida dos filmes finos de Ga2O3, incluindo a identificação das fases cristalinas nas amostras e sua correlação entre dados experimentais e teóricos, demonstra a eficácia da combinação de técnicas avançadas de deposição, caracterização multimodal e modelagem computacional para estudos aprofundados de materiais existentes, assim como a investigação de novos materiais.This study focuses on the synthesis and characterization of gallium oxide thin films grown via Ion Beam Assisted Deposition (IBAD). The films were analyzed using X-Ray Diffraction (XRD), Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS), Scanning Electron Microscopy (SEM), and UV-VIS-NIR reflectance spectroscopy. XRD confirmed the crystalline phases present in each sample, while RBS provided the approximate film thickness as well as stoichiometric confirmation (film composition during deposition). SEM characterized the surface morphology, revealing a very low roughness surface with an average grain size of 71(11) nm. Optical reflectance measurements were used to determine the bandgap values of each sample using the Tauc method, supported by the Kubelka-Munk transformation. Complementarily, the material\'s CIF file was employed for first-principles simulations in WIEN2k, generating electronic band structure diagrams and Density of States (DOS). The theoretical results identified an indirect band gap at the L point, consistent with the experimental findings. The band gap values are 4.58 eV at the point and 4.51 eV at the L point. Notably, the experimental and simulated band gap values exhibit close agreement, validating the methodology. The successful characterization of the Ga2O3 thin films, including the identification of the crystalline phases in the samples and the correlation between experimental and theoretical data, demonstrates the effectiveness of combining advanced deposition techniques, multimodal characterization, and computational modeling for in-depth studies of existing materials, as well as for the investigation of new materials.Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USPChubaci, Jose Fernando DinizFidelis, Daniel Gonçalves2025-09-29info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttps://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-10112025-141342/reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USPinstname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USPLiberar o conteúdo para acesso público.info:eu-repo/semantics/openAccesspor2025-11-24T18:28:06Zoai:teses.usp.br:tde-10112025-141342Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.teses.usp.br/PUBhttp://www.teses.usp.br/cgi-bin/mtd2br.plvirginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.bropendoar:27212025-11-24T18:28:06Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)false |
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Este estudo foca na síntese e caracterização de filmes finos de óxido de gálio, crescidos via Deposição Assistida por Feixe de Íons (IBAD). Os filmes foram analisados usando Difração de Raios X (XRD), Espectrometria de Retroespalhamento de Rutherford (RBS), Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV) e espectroscopia de reflectância UV-VIS-NIR. O XRD confirmou as fases cristalinas presentes em cada amostra, enquanto o RBS forneceu a espessura aproximada dos filmes, assim como a confirmação estequiométrica (composição do filme durante a deposição). O MEV caracterizou a morfologia da superfície, mostrando uma superfície de baixíssima rugosidade, com um tamanho médio de grão de 71(11) nm. As medições de reflectância óptica foram utilizadas para encontrar os valores de bandgap de cada amostra pelo método de Tauc, suportado pela transformação de Kubelka-Munk. Complementarmente, o arquivo CIF do material foi empregado para simulações de primeiros princípios no WIEN2k, gerando diagramas de estrutura de bandas eletrônicas e Densidade de Estados (DOS). Os resultados teóricos identificaram uma largura de banda indireta no ponto L, consistente com os achados experimentais. Os valores da largura de banda são 4,58 eV no ponto e 4,51 eV no ponto L. Notavelmente, os valores experimentais e simulados da largura de banda exibiram uma concordância próxima, validando a metodologia. A caracterização bem-sucedida dos filmes finos de Ga2O3, incluindo a identificação das fases cristalinas nas amostras e sua correlação entre dados experimentais e teóricos, demonstra a eficácia da combinação de técnicas avançadas de deposição, caracterização multimodal e modelagem computacional para estudos aprofundados de materiais existentes, assim como a investigação de novos materiais. |
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