Projeto, construção e caracterização de um forno para recozimento térmico rápido (RTP).

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 1990
Autor(a) principal: Kawano, Mario
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Forno
Oven
Rapid thermal annealing
Recozimento térmico ráopido
Link de acesso: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-16012025-150224/
Resumo: Construiu-se um forno para recozimento de laminas de silício pelo processo R.T.P. (Recozimento Térmico Rápido). A fonte de calor utilizada foi uma resistência de grafite. 0 forno opera com vácuo que chega à ordem de 3 E-07 Torr. Com a utilização de antecâmara para manter o vácuo na câmara de processo mesmo durante a introdução da amostra, o tempo de recozimento é da ordem de minutos. Para medição de temperatura usou-se pirômetro ótico e termopar, este último colado a uma amostra de teste. A temperatura de operação do forno pode variar desde 400 a 1 .300ºC. Durante a caracterização foi observado os transientes de temperatura em amostra pouco e muito dopado. Com microscópio eletrônico de varredura foi feito o estudo da morfologia para amostras de silicetos.
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