Nucleação e crescimento de cobre eletrodepositado em silício

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2000
Autor(a) principal: Fuckner, Edson Osvaldo
Orientador(a): Pasa, Andre Avelino
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Florianópolis, SC
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Link de acesso: http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/78601
Resumo: Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas.
id UFSC_6a9dedf07ec0d296d5501b807aaef57e
oai_identifier_str oai:repositorio.ufsc.br:123456789/78601
network_acronym_str UFSC
network_name_str Repositório Institucional da UFSC
repository_id_str
spelling Universidade Federal de Santa CatarinaFuckner, Edson OsvaldoPasa, Andre Avelino2012-10-17T16:36:33Z2012-10-17T16:36:33Z20002000174187http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/78601Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas.O objetivo principal deste trabalho é o estudo dos mecanismos de nucleação e crescimento de filmes finos de cobre eletrodepositados sobre silício monocristalino. O trabalho analisa a influência de alguns fatores que possam alterar a morfologia e a estrutura de camadas eletrodepositadas, visando o controle da qualidade destas através dos parâmetros de deposição. O arranjo experimental utilizado para a eletrodeposição é constituído de uma célula eletrolítica de 3 eletrodos e um potenciostato. Sulfato de Cobre (CuSO4) em solução aquosa foi empregado como fonte de íons de cobre. Foram testadas soluções diluídas de sulfato de cobre com os aditivos HF e H3BO3 e com o eletrólito de suporte Na2SO4. Pela análise dos transientes de corrente através dos modelos de Scharifker/Hills e estocástico, constatou-se processos de nucleação dependentes da composição do eletrólito e do potencial aplicado. A técnica de microscopia de varredura possibilitou estabelecer uma relação entre a morfologia do filme depositado e os transientes de corrente obtidos.68 f.| il., grafs., tabs.porFlorianópolis, SCEletrodeposiçãoFilmes finosNucleação e crescimento de cobre eletrodepositado em silícioinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisreponame:Repositório Institucional da UFSCinstname:Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)instacron:UFSCinfo:eu-repo/semantics/openAccessORIGINAL174187.pdfapplication/pdf2459363https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/78601/1/174187.pdf648b332e651f46a28e23159a48b12bc1MD51123456789/786012014-09-25 15:54:32.151oai:repositorio.ufsc.br:123456789/78601Repositório InstitucionalPUBhttp://150.162.242.35/oai/requestsandra.sobrera@ufsc.bropendoar:23732014-09-25T18:54:32Repositório Institucional da UFSC - Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)false
dc.title.pt_BR.fl_str_mv Nucleação e crescimento de cobre eletrodepositado em silício
title Nucleação e crescimento de cobre eletrodepositado em silício
spellingShingle Nucleação e crescimento de cobre eletrodepositado em silício
Fuckner, Edson Osvaldo
Eletrodeposição
Filmes finos
title_short Nucleação e crescimento de cobre eletrodepositado em silício
title_full Nucleação e crescimento de cobre eletrodepositado em silício
title_fullStr Nucleação e crescimento de cobre eletrodepositado em silício
title_full_unstemmed Nucleação e crescimento de cobre eletrodepositado em silício
title_sort Nucleação e crescimento de cobre eletrodepositado em silício
author Fuckner, Edson Osvaldo
author_facet Fuckner, Edson Osvaldo
author_role author
dc.contributor.pt_BR.fl_str_mv Universidade Federal de Santa Catarina
dc.contributor.author.fl_str_mv Fuckner, Edson Osvaldo
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv Pasa, Andre Avelino
contributor_str_mv Pasa, Andre Avelino
dc.subject.classification.pt_BR.fl_str_mv Eletrodeposição
Filmes finos
topic Eletrodeposição
Filmes finos
description Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas.
publishDate 2000
dc.date.submitted.pt_BR.fl_str_mv 2000
dc.date.issued.fl_str_mv 2000
dc.date.accessioned.fl_str_mv 2012-10-17T16:36:33Z
dc.date.available.fl_str_mv 2012-10-17T16:36:33Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/78601
dc.identifier.other.pt_BR.fl_str_mv 174187
identifier_str_mv 174187
url http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/78601
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv 68 f.| il., grafs., tabs.
dc.publisher.none.fl_str_mv Florianópolis, SC
publisher.none.fl_str_mv Florianópolis, SC
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Institucional da UFSC
instname:Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)
instacron:UFSC
instname_str Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)
instacron_str UFSC
institution UFSC
reponame_str Repositório Institucional da UFSC
collection Repositório Institucional da UFSC
bitstream.url.fl_str_mv https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/78601/1/174187.pdf
bitstream.checksum.fl_str_mv 648b332e651f46a28e23159a48b12bc1
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional da UFSC - Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)
repository.mail.fl_str_mv sandra.sobrera@ufsc.br
_version_ 1851759050974298112

Registros relacionados