Rugosidade superficial de camadas eletrodepositadas de óxido de cobre

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2008
Autor(a) principal: Stenger, Vagner
Orientador(a): Pasa, Andre Avelino
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Florianópolis, SC
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Link de acesso: http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/91611
Resumo: Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro Tecnológico. Programa de Pós-graduação em Ciência e Engenharia de Materiais
id UFSC_ae8372ea92c1fdbe8bd923e8d7e3a88a
oai_identifier_str oai:repositorio.ufsc.br:123456789/91611
network_acronym_str UFSC
network_name_str Repositório Institucional da UFSC
repository_id_str
spelling Universidade Federal de Santa CatarinaStenger, VagnerPasa, Andre Avelino2012-10-24T00:46:02Z2012-10-24T00:46:02Z20082008261776http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/91611Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro Tecnológico. Programa de Pós-graduação em Ciência e Engenharia de MateriaisO objetivo deste trabalho é estudar a eletrodeposição de filmes finos de óxido de cobre sobre diferentes substratos bem como a evolução da rugosidade dos depósitos para aplicações futuras em dispositivos eletrônicos. Devido à alta qualidade dos contatos elétricos exigida e as diversas junções entre materiais que podem ser formadas, a presente investigação é de extrema importância para o emprego do Cu2O nas aplicações citadas acima. Os filmes finos de Cu2O foram obtidos com a técnica de eletrodeposição potenciostática, para uma solução eletrolítica contendo 0,4 M CuSO4 (sulfato de cobre), 3,0 M C3H6O3 (ácido lático) e 5,0 M NaOH (hidróxido de sódio). O pH desta solução foi mantido em um valor próximo a 10, para que fosse possível atingir uma concentração de vacâncias de cobre que deixam o material semicondutor com condução característica do tipo p. A investigação das amostras deu-se a partir da confirmação do material depositado ser o óxido de cobre do tipo I, ou seja, Cu2O ao invés de CuO. Os dados que levam a esta confirmação foram obtidos analisando as amostras com técnicas que permitissem extrair informações físicas e químicas dos depósitos, como: Difratometria de Raios X e Espectroscopia Raman. Quanto à evolução da rugosidade das amostras, a Teoria de Invariância por Escala ("Scaling") foi aplicada em imagens obtidas por Microscopia de Força Atômica. Os filmes foram crescidos sobre três diferentes substratos, Si tipo n e p (com alta densidade de dopantes) e níquel (evaporado sobre Si_n). Os resultados desta investigação mostraram que o material contém em sua maior parte Cu2O com orientação preferencial na direção [200], conforme observado por difratometria de raios-X. Espectros Raman também apresentaram a fase CuO, possivelmente com estrutura amorfa (picos largos) e em menor quantidade (picos de baixa intensidade). Para o estudo da evolução da topografia superficial das camadas depositadas foram observados baixos valores de rugosidade evoluindo com a espessura e a mudança de regime de escalonamento anômolo para o normal, com o aumento da condutividade do substrato.99 f.| il., grafs., tabs.porFlorianópolis, SCCiencia dos materiaisEngenharia de materiaisEletrodeposicaoFilmes finosRugosidade superficial de camadas eletrodepositadas de óxido de cobreinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisreponame:Repositório Institucional da UFSCinstname:Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)instacron:UFSCinfo:eu-repo/semantics/openAccessORIGINAL261776.pdfapplication/pdf1251343https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/91611/1/261776.pdfff46d31f089b7634f77885da7ac612c5MD51TEXT261776.pdf.txt261776.pdf.txtExtracted Texttext/plain112571https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/91611/2/261776.pdf.txt26e8d65ba2a6f92d50eebd4ee567b68dMD52THUMBNAIL261776.pdf.jpg261776.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg974https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/91611/3/261776.pdf.jpg300c0020cdc73f4bc7c6370d6e08061fMD53123456789/916112016-03-07 15:55:20.829oai:repositorio.ufsc.br:123456789/91611Repositório InstitucionalPUBhttp://150.162.242.35/oai/requestsandra.sobrera@ufsc.bropendoar:23732016-03-07T18:55:20Repositório Institucional da UFSC - Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)false
dc.title.pt_BR.fl_str_mv Rugosidade superficial de camadas eletrodepositadas de óxido de cobre
title Rugosidade superficial de camadas eletrodepositadas de óxido de cobre
spellingShingle Rugosidade superficial de camadas eletrodepositadas de óxido de cobre
Stenger, Vagner
Ciencia dos materiais
Engenharia de materiais
Eletrodeposicao
Filmes finos
title_short Rugosidade superficial de camadas eletrodepositadas de óxido de cobre
title_full Rugosidade superficial de camadas eletrodepositadas de óxido de cobre
title_fullStr Rugosidade superficial de camadas eletrodepositadas de óxido de cobre
title_full_unstemmed Rugosidade superficial de camadas eletrodepositadas de óxido de cobre
title_sort Rugosidade superficial de camadas eletrodepositadas de óxido de cobre
author Stenger, Vagner
author_facet Stenger, Vagner
author_role author
dc.contributor.pt_BR.fl_str_mv Universidade Federal de Santa Catarina
dc.contributor.author.fl_str_mv Stenger, Vagner
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv Pasa, Andre Avelino
contributor_str_mv Pasa, Andre Avelino
dc.subject.classification.pt_BR.fl_str_mv Ciencia dos materiais
Engenharia de materiais
Eletrodeposicao
Filmes finos
topic Ciencia dos materiais
Engenharia de materiais
Eletrodeposicao
Filmes finos
description Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro Tecnológico. Programa de Pós-graduação em Ciência e Engenharia de Materiais
publishDate 2008
dc.date.submitted.pt_BR.fl_str_mv 2008
dc.date.issued.fl_str_mv 2008
dc.date.accessioned.fl_str_mv 2012-10-24T00:46:02Z
dc.date.available.fl_str_mv 2012-10-24T00:46:02Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/91611
dc.identifier.other.pt_BR.fl_str_mv 261776
identifier_str_mv 261776
url http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/91611
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv 99 f.| il., grafs., tabs.
dc.publisher.none.fl_str_mv Florianópolis, SC
publisher.none.fl_str_mv Florianópolis, SC
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Institucional da UFSC
instname:Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)
instacron:UFSC
instname_str Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)
instacron_str UFSC
institution UFSC
reponame_str Repositório Institucional da UFSC
collection Repositório Institucional da UFSC
bitstream.url.fl_str_mv https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/91611/1/261776.pdf
https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/91611/2/261776.pdf.txt
https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/91611/3/261776.pdf.jpg
bitstream.checksum.fl_str_mv ff46d31f089b7634f77885da7ac612c5
26e8d65ba2a6f92d50eebd4ee567b68d
300c0020cdc73f4bc7c6370d6e08061f
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional da UFSC - Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)
repository.mail.fl_str_mv sandra.sobrera@ufsc.br
_version_ 1851759203979362304