Obtenção de filme poroso, útil na determinação de umidade e proteção contra radiação ultravioleta.

• Ano de defesa: 2004
• Autor(a) principal: Carvalho, Rodrigo Amorim Motta
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
• Palavras-chave em Português: Filmes finos; Nanotechnology; Nanotecnologia; Plasma (Microelectronics); Plasma (Microeletrônica); Polimerização; Polymerization; Thin films
• Link de acesso: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11042025-112032/

Este trabalho apresenta filmes finos obtidos pela polimerização por plasma de Tetraetilortossilicato em três reatores diferentes. Análise FTIR mostrou que os filmes contêm essencialmente espécies SiOSi e OEt. O ângulo de contato formado por uma gota de água demonstrou o caráter hidrofóbico do filme. Porém, a reação da água com o filme leva à formação de EtOH e SiOH e a completa perda de carbono. Exposição à radiação ultravioleta favorece a remoção de carbono e a ligação cruzada entre os radicais SiOH. Medidas de microbalança de quartzo (QCM) mostraram que os filmes adsorvem rapidamente dodecano, hexano e vapor de água. A capacidade de adsorção foi maior para moléculas polares e/ou menores. Para água, QCM mostrou não apenas adsorção, mas também permeação. Esta permeação ocorreu provavelmente pela presença de microcanais maiores que 200 Å de diâmetro como identificado por microscopia de força atômica. Análise condutométrica mostrou que íons podem permear e serem adsorvidos pelos canais se uma tensão é aplicada através do filme ou se houver variação na concentração das soluções, quando a deposição do filme é feita sobre uma membrana permeável. Os filmes obtidos neste trabalho podem ser utilizados em polímeros naturais, em particular em grãos, para prevenir o ataque de microrganismos durante estocagem, mas sem criar qualquer problema para a germinação. Os resultados apresentados neste trabalho indicam que os filmes produzidos são apropriados para proteção de superfícies contra a radiação ultravioleta e o desenvolvimento de nanofiltros ou de sensores.