Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering
Ano de defesa: | 2018 |
---|---|
Autor(a) principal: | |
Orientador(a): | |
Banca de defesa: | |
Tipo de documento: | Dissertação |
Tipo de acesso: | Acesso aberto |
Idioma: | por |
Instituição de defesa: |
Não Informado pela instituição
|
Programa de Pós-Graduação: |
Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais
|
Departamento: |
Não Informado pela instituição
|
País: |
Não Informado pela instituição
|
Palavras-chave em Português: | |
Palavras-chave em Inglês: | |
Área do conhecimento CNPq: | |
Link de acesso: | http://ri.ufs.br/jspui/handle/riufs/10595 |
Resumo: | Zr-Hf-N and Zr-Hf thin films were deposited by reactive magnetron sputtering in order to verify the influence of small hafnium contents that are present as contaminants on zirconium deposition targets. For this purpose different hafnium contents in the films were intentionally added by varying the deposition power. The samples were characterized by X-ray diffraction (XRD), dispersive energy X-ray spectroscopy (EDS), Rutherford backscattering spectroscopy (RBS) and nanohardness analyzes. The ZrHfN thin films were deposited and had a concentration of at% Hf of 0.49; 0.56; 0.80; 1.87 and 2.70. The deposited Zr-Hf alloys exhibited hafnium contents at up to 1.21%; 1.24; 4.35; 7.94 and 11.49. The crystalline phase obtained for the nitride films had a cubic face centered structure (FCC) and was not modified by the increase in hafnium content. The alloys presented amorphous with some crystalline regions of hexagonal structure. The hardness values ranged from 21.4 to 25.1 GPa for nitrides and from 6.1 to 8.4 GPa for zirconium alloys. |
id |
UFS-2_f9623fd24cddec9542453a8799483d49 |
---|---|
oai_identifier_str |
oai:ufs.br:riufs/10595 |
network_acronym_str |
UFS-2 |
network_name_str |
Repositório Institucional da UFS |
repository_id_str |
|
spelling |
Santos, Ikaro Arthur DantasTentardini, Eduardo Kirinus2019-03-01T19:39:02Z2019-03-01T19:39:02Z2018-10SANTOS, Ikaro Arthur Dantas. Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering. 2018. 60 f. Dissertação (Mestrado em Ciência e Engenharia de Materiais) - Universidade Federal de Sergipe, São Cristóvão, SE, 2018.http://ri.ufs.br/jspui/handle/riufs/10595Zr-Hf-N and Zr-Hf thin films were deposited by reactive magnetron sputtering in order to verify the influence of small hafnium contents that are present as contaminants on zirconium deposition targets. For this purpose different hafnium contents in the films were intentionally added by varying the deposition power. The samples were characterized by X-ray diffraction (XRD), dispersive energy X-ray spectroscopy (EDS), Rutherford backscattering spectroscopy (RBS) and nanohardness analyzes. The ZrHfN thin films were deposited and had a concentration of at% Hf of 0.49; 0.56; 0.80; 1.87 and 2.70. The deposited Zr-Hf alloys exhibited hafnium contents at up to 1.21%; 1.24; 4.35; 7.94 and 11.49. The crystalline phase obtained for the nitride films had a cubic face centered structure (FCC) and was not modified by the increase in hafnium content. The alloys presented amorphous with some crystalline regions of hexagonal structure. The hardness values ranged from 21.4 to 25.1 GPa for nitrides and from 6.1 to 8.4 GPa for zirconium alloys.Filmes finos de Zr-Hf-N e Zr-Hf foram depositados por magnetron sputtering reativo com o intuito de verificar a influência de pequenos teores de háfnio que estão presentes como contaminantes nos alvos de deposição de zircônio. Para isto foram adicionados intencionalmente diferentes teores de háfnio nos filmes através da variação da potência de deposição. As amostras foram caracterizadas por difração de raios-X (DRX), espectroscopia de raios-Xpor energia dispersiva (EDS), espectroscopia por retroespalhamento Rutherford (RBS) e análises de nanodureza. Os filmes finos de ZrHfN foram depositados e apresentaram concentração em at.% de Hf de 0,49; 0,56; 0,80; 1,87 e 2,70. As ligas Zr-Hf depositadas apresentaram teores de háfnio em at.% de 1,21; 1,24; 4,35; 7,94 e 11,49. A fase cristalina obtida para os filmes os nitretos tinha estrutura cúbica de face centrada (CFC) e não foi modificada pelo aumento do teor de háfnio. As ligas se apresentaram amorfas com algumas regiões cristalinas de estrutura hexagonal. Os valores de dureza variaram de 21,4 a 25,1 GPa para os nitretos e de 6,1 a 8,4 GPa para as ligas de zircônio.Conselho Nacional de Pesquisa e Desenvolvimento Científico e Tecnológico - CNPqSão Cristóvão, SEporCiência dos materiaisFilmes finosZircônioMagnetronsZrHfNZrHfMagnetron sputtering reativoThin filmsReactive magnetron sputteringENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICAInfluência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputteringInfluence of Hf content in thin films of Zr and ZrN deposited by magnetron sputteringinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisPós-Graduação em Ciência e Engenharia de MateriaisUniversidade Federal de Sergipereponame:Repositório Institucional da UFSinstname:Universidade Federal de Sergipe (UFS)instacron:UFSinfo:eu-repo/semantics/openAccessTEXTIKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdf.txtIKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdf.txtExtracted texttext/plain91285https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/10595/3/IKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdf.txtbb1fc02c715df0448f0514baaf62b911MD53THUMBNAILIKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdf.jpgIKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1233https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/10595/4/IKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdf.jpg6f5537b4d797f6e5d2b19dadc8ce96f4MD54LICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-81475https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/10595/1/license.txt098cbbf65c2c15e1fb2e49c5d306a44cMD51ORIGINALIKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdfIKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdfapplication/pdf1917226https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/10595/2/IKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdf02cb05b8a2b48ce41c3ab801444a1f37MD52riufs/105952019-03-01 16:39:03.986oai:ufs.br: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Repositório InstitucionalPUBhttps://ri.ufs.br/oai/requestrepositorio@academico.ufs.bropendoar:2019-03-01T19:39:03Repositório Institucional da UFS - Universidade Federal de Sergipe (UFS)false |
dc.title.pt_BR.fl_str_mv |
Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering |
dc.title.alternative.eng.fl_str_mv |
Influence of Hf content in thin films of Zr and ZrN deposited by magnetron sputtering |
title |
Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering |
spellingShingle |
Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering Santos, Ikaro Arthur Dantas Ciência dos materiais Filmes finos Zircônio Magnetrons ZrHfN ZrHf Magnetron sputtering reativo Thin films Reactive magnetron sputtering ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA |
title_short |
Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering |
title_full |
Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering |
title_fullStr |
Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering |
title_full_unstemmed |
Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering |
title_sort |
Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering |
author |
Santos, Ikaro Arthur Dantas |
author_facet |
Santos, Ikaro Arthur Dantas |
author_role |
author |
dc.contributor.author.fl_str_mv |
Santos, Ikaro Arthur Dantas |
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv |
Tentardini, Eduardo Kirinus |
contributor_str_mv |
Tentardini, Eduardo Kirinus |
dc.subject.por.fl_str_mv |
Ciência dos materiais Filmes finos Zircônio Magnetrons ZrHfN ZrHf Magnetron sputtering reativo |
topic |
Ciência dos materiais Filmes finos Zircônio Magnetrons ZrHfN ZrHf Magnetron sputtering reativo Thin films Reactive magnetron sputtering ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA |
dc.subject.eng.fl_str_mv |
Thin films Reactive magnetron sputtering |
dc.subject.cnpq.fl_str_mv |
ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA |
description |
Zr-Hf-N and Zr-Hf thin films were deposited by reactive magnetron sputtering in order to verify the influence of small hafnium contents that are present as contaminants on zirconium deposition targets. For this purpose different hafnium contents in the films were intentionally added by varying the deposition power. The samples were characterized by X-ray diffraction (XRD), dispersive energy X-ray spectroscopy (EDS), Rutherford backscattering spectroscopy (RBS) and nanohardness analyzes. The ZrHfN thin films were deposited and had a concentration of at% Hf of 0.49; 0.56; 0.80; 1.87 and 2.70. The deposited Zr-Hf alloys exhibited hafnium contents at up to 1.21%; 1.24; 4.35; 7.94 and 11.49. The crystalline phase obtained for the nitride films had a cubic face centered structure (FCC) and was not modified by the increase in hafnium content. The alloys presented amorphous with some crystalline regions of hexagonal structure. The hardness values ranged from 21.4 to 25.1 GPa for nitrides and from 6.1 to 8.4 GPa for zirconium alloys. |
publishDate |
2018 |
dc.date.issued.fl_str_mv |
2018-10 |
dc.date.accessioned.fl_str_mv |
2019-03-01T19:39:02Z |
dc.date.available.fl_str_mv |
2019-03-01T19:39:02Z |
dc.type.status.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/masterThesis |
format |
masterThesis |
status_str |
publishedVersion |
dc.identifier.citation.fl_str_mv |
SANTOS, Ikaro Arthur Dantas. Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering. 2018. 60 f. Dissertação (Mestrado em Ciência e Engenharia de Materiais) - Universidade Federal de Sergipe, São Cristóvão, SE, 2018. |
dc.identifier.uri.fl_str_mv |
http://ri.ufs.br/jspui/handle/riufs/10595 |
identifier_str_mv |
SANTOS, Ikaro Arthur Dantas. Influência do teor de Hf em filmes finos de Zr e ZrN depositados por magnetron sputtering. 2018. 60 f. Dissertação (Mestrado em Ciência e Engenharia de Materiais) - Universidade Federal de Sergipe, São Cristóvão, SE, 2018. |
url |
http://ri.ufs.br/jspui/handle/riufs/10595 |
dc.language.iso.fl_str_mv |
por |
language |
por |
dc.rights.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/openAccess |
eu_rights_str_mv |
openAccess |
dc.publisher.program.fl_str_mv |
Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais |
dc.publisher.initials.fl_str_mv |
Universidade Federal de Sergipe |
dc.source.none.fl_str_mv |
reponame:Repositório Institucional da UFS instname:Universidade Federal de Sergipe (UFS) instacron:UFS |
instname_str |
Universidade Federal de Sergipe (UFS) |
instacron_str |
UFS |
institution |
UFS |
reponame_str |
Repositório Institucional da UFS |
collection |
Repositório Institucional da UFS |
bitstream.url.fl_str_mv |
https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/10595/3/IKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdf.txt https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/10595/4/IKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdf.jpg https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/10595/1/license.txt https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/10595/2/IKARO_ARTHUR_DANTAS_SANTOS.pdf |
bitstream.checksum.fl_str_mv |
bb1fc02c715df0448f0514baaf62b911 6f5537b4d797f6e5d2b19dadc8ce96f4 098cbbf65c2c15e1fb2e49c5d306a44c 02cb05b8a2b48ce41c3ab801444a1f37 |
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv |
MD5 MD5 MD5 MD5 |
repository.name.fl_str_mv |
Repositório Institucional da UFS - Universidade Federal de Sergipe (UFS) |
repository.mail.fl_str_mv |
repositorio@academico.ufs.br |
_version_ |
1802111111249526784 |