Transistor de base metálica tipo "p" eletrodepositado
| Ano de defesa: | 2007 |
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| Tipo de documento: | Tese |
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Florianópolis, SC
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| País: |
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| Link de acesso: | http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/90272 |
Resumo: | Tese (doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas. Programa de Pós-Graduação em Física. |
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Universidade Federal de Santa CatarinaDelatorre, Rafael GallinaPasa, Andre Avelino2012-10-23T07:56:08Z2012-10-23T07:56:08Z20072007261775http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/90272Tese (doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas. Programa de Pós-Graduação em Física.O Transistor de base metálica (TBM) é um tipo especial de transistor idealizado e desenvolvido no início da década de 1960, que possui potencial interesse no desenvolvimento atual de dispositivos spintrônicos. O objetivo principal desta tese é desenvolver e caracterizar um TBM tipo p fabricado inteiramente por eletrodeposição, buscando potenciais aplicações na área de spintrônica. A grande variedade de materiais que vêm sendo fabricados por eletrodeposição aumenta significativamente o interesse no estabelecimento desta técnica como alternativa simples e de baixo custo na preparação de filmes finos de alta qualidade. As propriedades elétricas das camadas eletrodepositadas vêm renovando o interesse da indústria nesta técnica, principalmente para aplicações de alta tecnologia. A estrutura do transistor estudado nesta tese é montada pela eletrodeposição sucessiva de um filme metálico, que pode ser Co ou Cu, na superfície de Si tipo p monocristalino, e de óxido Cu2O na superfície do filme metálico. Esta montagem caracteriza uma estrutura semicondutor - metal - semicondutor devido às propriedades naturais de semicondutor tipo p do Cu2O. As eletrodeposições do óxido semicondutor foram conduzidas potenciostaticamente, promovendo reações eletroquímicas de redução, através de eletrólito com sal de cobre e ácido lático em pH superior a 10, em condições ambientes. As eletrodeposições dos filmes metálicos em Si-p necessitaram da aplicação de luz durante os processos, devido às propriedades de condução do substrato tipo p de Si. Os potenciais de deposição encontrados para a formação da fase Cu2O foram sempre menos negativos que -0,60 V em relação ao eletrodo de referência, caracterizados por baixas taxas de deposição. A estrutura típica de TBM foi caracterizada quanto à composição e a morfologia por espectrometria de retro-espalhamento Rutherford, espectroscopia Raman, difração de raios X e microscopia de força atômica. Os dispositivos foram caracterizados eletricamente através de medidas de curvas de transistor e medidas a dois terminais. Os transistores eletrodepositados apresentaram propriedades dependentes das características da base metálica e do óxido emissor, com ganhos de corrente nas configurações base comum e emissor comum baseados no transporte de buracos através da base metálica. Os altos ganhos de corrente em base comum, aliados com informações obtidas pelas caracterizações morfológicas da base e das medidas elétricas, classificam nestes casos que os dispositivos apresentam um comportamento típico de transistor de base permeável. A investigação das propriedades magnéticas da base demonstrou que a corrente elétrica que atravessa os dispositivos é polarizada em spin, com ganho de corrente dependente da aplicação de campo magnético. Esta propriedade inclui o transistor eletrodepositado no grupo dos dispositivos spintrônicos.167 f.| il., grafs., tabs.porFlorianópolis, SCFísicaMateria condensadaEletrodeposicaoFilmes finosSemicondutoresTransistor de base metálica tipo "p" eletrodepositadoinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisreponame:Repositório Institucional da UFSCinstname:Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)instacron:UFSCinfo:eu-repo/semantics/openAccessORIGINAL261775.pdfapplication/pdf2136198https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/90272/1/261775.pdf74719dc2d73558d5578009c815cc0580MD51TEXT261775.pdf.txt261775.pdf.txtExtracted Texttext/plain204093https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/90272/2/261775.pdf.txt94575e7f794b343290f664ed2ce8b076MD52THUMBNAIL261775.pdf.jpg261775.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1407https://repositorio.ufsc.br/bitstream/123456789/90272/3/261775.pdf.jpg54e98322bdc94221b70ebb9b199912b5MD53123456789/902722013-05-02 18:33:34.244oai:repositorio.ufsc.br:123456789/90272Repositório InstitucionalPUBhttp://150.162.242.35/oai/requestsandra.sobrera@ufsc.bropendoar:23732013-05-02T21:33:34Repositório Institucional da UFSC - Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)false |
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