Influência de ânions na reação de redução de oxigênio sobre platina policristalina em ácido perclórico
| Ano de defesa: | 1989 |
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| Tipo de documento: | Dissertação |
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Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
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| Programa de Pós-Graduação: |
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| Palavras-chave em Português: | |
| Link de acesso: | https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/54/54133/tde-29102025-161643/ |
Resumo: | O estudo foi realizado em soluções aquosas de HClO4 0,1 M, na ausência e na presença de cloreto, e em diferentes concentrações de sulfato, fosfato e íons para caracterização da superfície de eletrodos de platina. A caracterização da superfície foi realizada utilizando a técnica de voltametria cíclica, analisando-se o efeito desses ânions nos processos superficiais da platina. A presença desses ânions deslocou o processo de adsorção-dessorção de hidrogênio para potenciais mais catódicos, à medida que a força de adsorção aumentava (PO43- > SO42- > Cl-). Consequentemente, o intervalo de potenciais correspondente à região de hidrogênio foi reduzido, com estreitamento dos picos presentes nesta região. Na região de oxigênio, a fase inicial do processo de formação de espécies oxidadas de platina foi deslocada para potenciais mais anódicos, especialmente na presença de ânions cloreto. Foi também observado o aparecimento de uma estrutura mais fina no comportamento da platina na presença de ânions sulfato e fosfato. Os efeitos observados foram atribuídos principalmente à adsorção específica desses ânions. Nos estudos da reação de redução de oxigênio utilizando eletrodos de disco-anel rotatórios, comprovou-se que a redução de oxigênio sobre platina em HClO4 ocorre segundo uma reação de primeira ordem em relação ao O2 dissolvido, envolvendo um mecanismo de quatro elétrons. O levantamento das retas de Tafel revelou que a primeira transferência eletrônica é a etapa determinante da velocidade da reação. Duas inclinações de Tafel foram encontradas: 60 mV/dec atribuída à adsorção de O2 obedecendo ao isotermo de Temkin devido à presença de óxidos superficiais, e 120 mV/dec à adsorção de O2 segundo o isotermo de Langmuir, ambas referentes à primeira transferência eletrônica. A adição de ânions sulfato e fosfato levou a um deslocamento do início do processo de redução de O2 para potenciais mais catódicos, aumentando gradualmente a inclinação de Tafel. Este fato foi atribuído ao deslocamento da região de óxidos para potenciais mais anódicos com a adição de fosfatos. Gráficos de Koutecký-Levich mostraram que não houve modificações no mecanismo reacional na presença desses ânions. Por outro lado, a adição de ânions cloreto produziu uma contribuição de um mecanismo envolvendo dois elétrons, estimada em aproximadamente 10%. Entretanto, a reação de primeira ordem e a primeira transferência eletrônica continuaram sendo a etapa determinante da velocidade da reação. Duas inclinações de Tafel foram encontradas na presença de cloreto: 60 mV/dec, atribuída à adsorção de O2 seguindo o isotermo de Temkin, e 120 mV/dec, associada à adsorção de Cl-, sendo que estudos de voltametria cíclica revelaram ausência de óxidos nessa região de potenciais. |
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Influência de ânions na reação de redução de oxigênio sobre platina policristalina em ácido perclóricoInfluence of anions on the oxygen reduction reaction on polycrystalline platinum in perchloric acidácido perclóricoanionsânionselectrochemistryeletroquímicaoxygen reduction reactionperchloric acidplatina policristalinapolycrystalline platinumreação de redução de oxigênioO estudo foi realizado em soluções aquosas de HClO4 0,1 M, na ausência e na presença de cloreto, e em diferentes concentrações de sulfato, fosfato e íons para caracterização da superfície de eletrodos de platina. A caracterização da superfície foi realizada utilizando a técnica de voltametria cíclica, analisando-se o efeito desses ânions nos processos superficiais da platina. A presença desses ânions deslocou o processo de adsorção-dessorção de hidrogênio para potenciais mais catódicos, à medida que a força de adsorção aumentava (PO43- > SO42- > Cl-). Consequentemente, o intervalo de potenciais correspondente à região de hidrogênio foi reduzido, com estreitamento dos picos presentes nesta região. Na região de oxigênio, a fase inicial do processo de formação de espécies oxidadas de platina foi deslocada para potenciais mais anódicos, especialmente na presença de ânions cloreto. Foi também observado o aparecimento de uma estrutura mais fina no comportamento da platina na presença de ânions sulfato e fosfato. Os efeitos observados foram atribuídos principalmente à adsorção específica desses ânions. Nos estudos da reação de redução de oxigênio utilizando eletrodos de disco-anel rotatórios, comprovou-se que a redução de oxigênio sobre platina em HClO4 ocorre segundo uma reação de primeira ordem em relação ao O2 dissolvido, envolvendo um mecanismo de quatro elétrons. O levantamento das retas de Tafel revelou que a primeira transferência eletrônica é a etapa determinante da velocidade da reação. Duas inclinações de Tafel foram encontradas: 60 mV/dec atribuída à adsorção de O2 obedecendo ao isotermo de Temkin devido à presença de óxidos superficiais, e 120 mV/dec à adsorção de O2 segundo o isotermo de Langmuir, ambas referentes à primeira transferência eletrônica. A adição de ânions sulfato e fosfato levou a um deslocamento do início do processo de redução de O2 para potenciais mais catódicos, aumentando gradualmente a inclinação de Tafel. Este fato foi atribuído ao deslocamento da região de óxidos para potenciais mais anódicos com a adição de fosfatos. Gráficos de Koutecký-Levich mostraram que não houve modificações no mecanismo reacional na presença desses ânions. Por outro lado, a adição de ânions cloreto produziu uma contribuição de um mecanismo envolvendo dois elétrons, estimada em aproximadamente 10%. Entretanto, a reação de primeira ordem e a primeira transferência eletrônica continuaram sendo a etapa determinante da velocidade da reação. Duas inclinações de Tafel foram encontradas na presença de cloreto: 60 mV/dec, atribuída à adsorção de O2 seguindo o isotermo de Temkin, e 120 mV/dec, associada à adsorção de Cl-, sendo que estudos de voltametria cíclica revelaram ausência de óxidos nessa região de potenciais.In this work, the oxygen reduction reaction (ORR) was studied in 0.1 M HClO4 solutions in the absence and in the presence of varying concentrations of sulphate, phosphate, and chloride anions. The study of the platinum electrode surface in such solutions was carried out by linear sweep voltammetry in order to analyze the effects of anions on platinum surface processes. The presence of adsorbed anions shifts the hydrogen adsorptiondesorption process to more cathodic potentials, and this effect increases greatly as the adsorption forces of anions increase (PO43- > SO42- > Cl-). Consequently, the potential range related to the hydrogen region is diminished while the hydrogen peaks become sharper and narrower. At the same time, the initial phase of platinum oxide film formation is shifted to more anodic potentials, an effect more pronounced for chloride anions. Also, the appearance of a finer structure at the initial phase of oxide film formation in the presence of sulphate and phosphate anions was observed. These effects were attributed to the specific adsorption of anions. A study carried out using rotating ring-disc electrodes proved that ORR is of first order in relation to dissolved O2 and follows a mechanism involving four electrons. The Tafel slopes showed that the first electron transfer reaction is the rate-determining step. Two linear regions for the E vs. log i relation were found: a low current density slope of 60 mV/dec and a high current density slope of 120 mV/dec. The existence of two Tafel slopes is interpreted in terms of Temkin and Langmuir adsorption isotherms. The addition of sulphate and phosphate anions shifts the onset of the oxygen reduction process to more cathodic potentials, thus increasing the reaction overpotential. The addition of increasing phosphate concentrations progressively diminished the potential range corresponding to the low Tafel slope region (60 mV/dec), condensing it into a single Tafel slope of 120 mV/dec. This effect was attributed to the shift of the oxide region to more anodic potentials due to phosphate adsorption. However, the interpretation of KouteckýLevich plots showed that no change in the reaction mechanism occurred in the presence of sulphate and phosphate. On the other hand, it was found that adsorption of chloride anions leads to the appearance of hydrogen peroxide, indicating a contribution of a 2-electron mechanism of approximately 10%. Thus, the first-order mechanism with the first electron transfer as the rate-determining step prevailed. Two Tafel slopes were found for all Cl- concentrations, and the presence of the lower slope (C60 mV/dec) was attributed to chloride adsorption, making oxygen adsorption follow Temkin conditions.Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USPGonzalez, Ernesto RafaelSaeki, Margarida Juri1989-02-15info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttps://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/54/54133/tde-29102025-161643/reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USPinstname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USPLiberar o conteúdo para acesso público.info:eu-repo/semantics/openAccesspor2025-10-29T18:44:05Zoai:teses.usp.br:tde-29102025-161643Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.teses.usp.br/PUBhttp://www.teses.usp.br/cgi-bin/mtd2br.plvirginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.bropendoar:27212025-10-29T18:44:05Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)false |
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O estudo foi realizado em soluções aquosas de HClO4 0,1 M, na ausência e na presença de cloreto, e em diferentes concentrações de sulfato, fosfato e íons para caracterização da superfície de eletrodos de platina. A caracterização da superfície foi realizada utilizando a técnica de voltametria cíclica, analisando-se o efeito desses ânions nos processos superficiais da platina. A presença desses ânions deslocou o processo de adsorção-dessorção de hidrogênio para potenciais mais catódicos, à medida que a força de adsorção aumentava (PO43- > SO42- > Cl-). Consequentemente, o intervalo de potenciais correspondente à região de hidrogênio foi reduzido, com estreitamento dos picos presentes nesta região. Na região de oxigênio, a fase inicial do processo de formação de espécies oxidadas de platina foi deslocada para potenciais mais anódicos, especialmente na presença de ânions cloreto. Foi também observado o aparecimento de uma estrutura mais fina no comportamento da platina na presença de ânions sulfato e fosfato. Os efeitos observados foram atribuídos principalmente à adsorção específica desses ânions. Nos estudos da reação de redução de oxigênio utilizando eletrodos de disco-anel rotatórios, comprovou-se que a redução de oxigênio sobre platina em HClO4 ocorre segundo uma reação de primeira ordem em relação ao O2 dissolvido, envolvendo um mecanismo de quatro elétrons. O levantamento das retas de Tafel revelou que a primeira transferência eletrônica é a etapa determinante da velocidade da reação. Duas inclinações de Tafel foram encontradas: 60 mV/dec atribuída à adsorção de O2 obedecendo ao isotermo de Temkin devido à presença de óxidos superficiais, e 120 mV/dec à adsorção de O2 segundo o isotermo de Langmuir, ambas referentes à primeira transferência eletrônica. A adição de ânions sulfato e fosfato levou a um deslocamento do início do processo de redução de O2 para potenciais mais catódicos, aumentando gradualmente a inclinação de Tafel. Este fato foi atribuído ao deslocamento da região de óxidos para potenciais mais anódicos com a adição de fosfatos. Gráficos de Koutecký-Levich mostraram que não houve modificações no mecanismo reacional na presença desses ânions. Por outro lado, a adição de ânions cloreto produziu uma contribuição de um mecanismo envolvendo dois elétrons, estimada em aproximadamente 10%. Entretanto, a reação de primeira ordem e a primeira transferência eletrônica continuaram sendo a etapa determinante da velocidade da reação. Duas inclinações de Tafel foram encontradas na presença de cloreto: 60 mV/dec, atribuída à adsorção de O2 seguindo o isotermo de Temkin, e 120 mV/dec, associada à adsorção de Cl-, sendo que estudos de voltametria cíclica revelaram ausência de óxidos nessa região de potenciais. |
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