Produção e caracterização de películas de ligas de silício amorfo hidrogenado dopadas com boro.

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 1991
Autor(a) principal: Ramos, Carlos Alberto Santos
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Filmes de silício
Silicon films
Link de acesso: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3142/tde-06012025-122006/
Resumo: Neste trabalho foi realizado o estudo de filmes de silício amorfo hidrogenado e suas ligas com carbono dopados com boro, num reator planar de descarga luminosa capacitiva de RF. Durante os estudos, que visavam a obtenção das condições ideais de deposição desses materiais, foi observado um fator limitante, que diz respeito principalmente aos tipos de gases inseridos dentro da câmara de deposição. Neste caso nos referimos ao hélio, utilizado como diluente no cilindro da diborana, que leva a produção de películas com propriedades opto-elétricas pobres, contrariamente as películas intrínsecas ou dopadas com fósforo depositadas no mesmo reator.
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